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发明公开
一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法审中-实审

公开(公告)号：CN114690581A

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN202011632381.7

申请日：2020-12-31

Applicant: 上海微电子装备(集团)股份有限公司

Inventor： 田翠侠 , 夏海 , 张世锦 , 沈恬

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供了一种自动调焦装置、曝光装置、光刻装置及曝光方法，自动调焦装置包括运动单元、承片台、位移传感器检测装置和控制系统；承片台设置于运动单元上，承片台被配置为承载基底；运动单元被配置为带动承片台在垂直方向上做上下升降运动、以及沿承片台轴向做旋转运动；位移传感器检测装置设置于承片台上的基底的下方，其被配置为采集基底的翘曲量；控制系统被配置为根据基底的翘曲量控制运动单元带动承片台在垂直方向上做上下升降运动，以对曝光过程中的基底进行自动调焦。本发明提供的自动调焦装置可以使大翘曲片的曝光面在曝光过程中与投影物镜焦面尽可能保持重合，达到最佳的曝光性能。

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