公开(公告)号：CN116705648A

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202310143848.9

申请日：2023-02-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 平瀬圭太 ,  齐藤幸良 ,  寺本聪宽 ,  田中幸二 ,  武井奖太 ,  御所真高 ,  北村和晃 ,  池田真一 ,  栗崎俊介 ,  木村裕二

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供能够抑制在基片形成的图案的倒塌的基片处理系统和基片处理方法。基片处理系统包括：送入送出部，其能够送入送出收容有多个基片的盒；批次处理部，其将包含多个上述基片的基片组以使上述基片各自直立的状态一并进行处理；单片处理部，其将上述基片组的上述基片以水平的状态逐一地进行处理；和接口部，其从上述批次处理部向上述单片处理部交接上述基片，上述接口部具有：将上述基片以使其与纯水接触的状态保持为水平的待机部；和从上述批次处理部向上述待机部交接上述基片的输送机构。