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公开(公告)号：CN117568764A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311531458.5
申请日：2023-11-16
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明涉及材料表面改性技术领域，具体来说，涉及一种提高高功率脉冲磁控溅射技术制备多层ta‑C涂层沉积速率的方法。所述方法以高功率脉冲磁控溅射技术制备ta‑C涂层，在ta‑C涂层制备通入C2H2，通入C2H2的流量≤45sccm。本发明利用带有反向正脉冲的高功率脉冲磁控溅射技术并且通入乙炔气体制备四面体非晶碳ta‑C，在得到高硬度和低摩擦系数的优点同时，也有效的提高了离子利用率使薄膜沉积速率，最高提高了80％。
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公开(公告)号：CN117568762A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311531203.9
申请日：2023-11-16
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明涉及材料表面改性技术领域，具体来说，涉及一种利用高功率脉冲磁控溅射技术制备Si掺杂的ta‑C涂层的方法。所述方法以高功率磁控溅射技术制备ta‑C涂层，在制备ta‑C涂层时，掺杂Si，调节Si靶功率≤0.6kw。本发明采用的高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)制备ta‑C涂层，并在此基础上，掺杂Si元素，所得到的ta‑C涂层具有低于4.2的内应力的同时，摩擦系数降低至0.06，硬度也同时有所提高。本发明制备的Si掺杂的ta‑C涂层，其低内应力及低摩擦系数，对于汽车发动机及其零部件性能均有提升。
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公开(公告)号：CN116377386A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310352836.7
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种基于高功率脉冲磁控溅射技术的TiN/TiO2/α‑Al2O3涂层制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、对基体进行离子清洗；S2、停在Ti靶前，功率为8‑15kW的脉冲反应溅射获得TiN过渡层；S3、再停在Ti靶前，功率为10‑15kW脉冲反应溅射获得TiO2过渡层；S4、再停在Al靶前，高功率脉冲反应溅射获得α‑Al2O3层，即得。本发明综合利用了高功率脉冲磁控溅射制备的TiN/TiO2/α‑Al2O3涂层具有高硬度、高热稳定性和低摩擦系数的优点，得到的多层涂层的硬度可达到27GPa以上，同时具有低于0.1的摩擦系数，具有较高的热稳定性和化学稳定性。
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公开(公告)号：CN116732469A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310352839.0
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种CrN/Cr2O3涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、溅射CrN过渡层：将离子清洗后的基体停留在Cr靶之前，通过功率15kW的脉冲反应溅射获得CrN过渡层，得到溅射CrN过渡层的基体；S2、制备CrN/Cr2O3结构涂层：将步骤S1中溅射得到CrN过渡层的基体停留在Cr靶之前，通过功率15kW的脉冲反应溅射获得Cr2O3涂层，即得。本发明涂层兼具高硬度和低摩擦的优点，得到的多层涂层的硬度可达到25GPa以上，同时具有低于0.1的摩擦系数，能够弥补传统合金在刀具涂层使用中的不足，拓宽了刀具涂层的研究范围，同时本发明方法工艺简单、成本低、效率高。
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公开(公告)号：CN116356255A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202310352833.3
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种TiCN涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将金属基体抛光处理，再超声清洗，然后进行离子轰击，得到清洗后的基体；S2、将清洗后的基体置停留在Ti靶之前，通过功率20kW的脉冲反应，溅射获得TiN过渡层；S3、将溅射TiN过渡层后的基体停留在Ti靶之前，通过功率20kW脉冲反应，溅射TiCN过渡层；S4、将溅射TiCN过渡层后的基体停留在Ti靶之前，通过功率20kW脉冲反应，溅射TiCN顶层硬度层。本发明得到的TiCN涂层涂层的硬度可达到35GPa以上，同时具有低于0.1的摩擦系数，具有较好的润滑性能，拓宽了刀具涂层的研究范围，可以在复杂的切削环境下工作。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117004906A
公开(公告)日：2023-11-07
申请号：CN202310352821.0
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种四面体非晶碳膜ta‑C涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将基体抛光处理，超声清洗后进行离子轰击；S2、再停留在Cr靶前，通过高功率脉冲反应溅射获得CrN底层；S3、再停留在Cr靶前，通过功率为5‑10kW的脉冲反应溅射获得CrC过渡层；S4、通入氩气和氮气，使用电弧离子镀引燃靶材；S5、再停留在石墨靶前，通过功率3.5‑6.0kw的脉冲多靶磁控溅射获得ta‑C涂层。本发明制备ta‑C涂层硬度达到32Gpa以上，具有低于0.085的摩擦系数，有较好的润滑性能，本发明方法能有效提高高功率脉冲磁控溅射沉积速率，提高涂层硬度和降低粗糙度，拓宽了此涂层技术和此涂层的研究范围。
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公开(公告)号：CN116623129A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310352820.6
申请日：2023-04-04
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明公开一种基于反向正脉冲技术的四面体非晶碳膜ta‑C多层结构涂层的制备方法，包括以下步骤：S1、将清洗后的基体停留在Cr靶前，通过功率为15‑20kW的脉冲反应溅射CrN底层；S2、停留在Cr靶前，通过功率为5‑10kW的脉冲反应溅射CrC过渡层；S3、再停留在石墨靶前，通过功率为5‑8kw的脉冲多靶磁控溅射ta‑C涂层；在每个脉冲周期的尾部施加反向正脉冲的50‑550V反向电压、频率范围200‑5000Hz。本发明制备ta‑C涂层硬度达到30Gpa以上，具有低于0.1的摩擦系数，在制备ta‑C碳薄膜时，可将薄膜的离子能量提高2‑4倍；有效离子利用率和薄膜沉积速率提高50‑60％。
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公开(公告)号：CN117568763A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311531204.3
申请日：2023-11-16
Applicant: 东北大学 , 上海新弧源涂层技术有限公司
Abstract: 本发明涉及材料表面改性技术领域，具体来说，涉及一种利用高功率脉冲磁控溅射技术制备Ti掺杂的ta‑C涂层的方法。所述方法在制备ta‑C涂层时，掺杂Ti，调节Ti靶功率在0.15‑0.6kw。本发明采用高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)制备ta‑C涂层，并在此基础上，同时加入碳靶和钛靶进行ta‑C涂层的制备，通过Ti的掺杂，在涂层表面形成掺Ti的ta‑C涂层，兼具TiC和ta‑C单层涂层的优点，降低其内应力的同时进一步提升了硬度，兼具有硬度高、应力低、耐腐蚀、耐磨等特点。
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公开(公告)号：CN118374845A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410476863.X
申请日：2024-04-19
Applicant: 东北大学
Abstract: 本发明公开了一种镀锡板生产用助熔剂、镀锡板及其制备方法，镀锡板生产用助熔剂包括以下质量百分比的组分：0.4％～0.8％的茜素红、0.4％～1％的邻苯二甲酸、其余为水。本发明的助熔剂以茜素红和邻苯二甲酸协同作用，并将其添加在软熔前，增大熔融锡的流平效果以填充镀层孔隙，使得锡层平整均匀的平铺在金属间化合物(锡铁合金层)上，同时有助于晶粒细化，使得镀锡层表面由哑光面变为亮光面，提高低锡量镀锡板的耐蚀性，使得锡铁合金层形貌粗大，枝晶生长密集，总体向三维方向生长，晶粒大小不一，形成异质结构，提高镀锡板表面的抗划伤性，减少在运输过程中由于磕碰使得镀锡板表面产生划伤。
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公开(公告)号：CN116288552A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310222955.0
申请日：2023-03-09
Applicant: 东北大学
Abstract: 一种增材制造钛合金活塞杆局部镀铬方法，活塞杆包括大端A、杆部B、螺纹段C，包括以下步骤，第一次安装：将第一紧密覆盖组件覆盖所述杆部表面及其与螺纹段所连接的端面，将第二紧密覆盖组件覆盖所述螺纹段的表面，将第三紧密覆盖组件覆盖所述大端的凹槽及所述大端与所述杆部所连接的端面；第一次镀铬：将所述活塞杆大端放入到镀铬液中进行电镀铬工艺，所述电镀铬工艺参数为：加热镀铬液至65‑75℃，pH2.5‑3.5、电流密度16‑18A/dm2；拆卸：将所述第一紧密覆盖组件拆卸下来；第二次安装：将第四紧密覆盖组件覆盖所述大端表面；第二次镀铬：将所述杆部B放入到镀铬液中进行电镀铬工艺，所述电镀铬工艺参数为：加热镀铬液至65‑75℃，pH2.5‑3.5、电流密度16‑18A/dm2。
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