公开(公告)号：CN104310522A

公开(公告)日：2015-01-28

申请号：CN201410594955.4

申请日：2014-10-30

Applicant: 东华理工大学

Inventor： 罗峰 ,  罗明标 ,  陈景丽 ,  李建强 ,  刘淑娟

IPC: C02F1/28 ,  C02F1/62 ,  B01J20/22 ,  B01J20/30

CPC classification number: C02F1/285 ,  B01J20/226 ,  C02F1/288 ,  C02F2101/20

Abstract: 本发明公开了一种超痕量Hg(Ⅱ)去除方法，其特征在于：将一种羟基修饰的MOF材料浸泡在含有超痕量Hg(Ⅱ)的废水中。本发明中的羟基修饰的MOF材料对汞离子有较高的吸附容量和高选择性，以快速、高效地去除水溶液中的痕量Hg(Ⅱ)离子，吸附效果远高于其他吸附材料，最大吸附容量为278mg/g，对初始浓度为100ppb的汞离子溶液一次处理后去除率高达87.5%，残留汞离子浓度低于12.5μg/L，远低于国家废水排放标准（50μg/L)。

公开(公告)号：CN104310522B

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201410594955.4

申请日：2014-10-30

Applicant: 东华理工大学

Inventor： 罗峰 ,  罗明标 ,  陈景丽 ,  李建强 ,  刘淑娟

IPC: C02F1/28 ,  C02F1/62 ,  B01J20/22 ,  B01J20/30

Abstract: 本发明公开了一种超痕量Hg(Ⅱ)去除方法，其特征在于：将一种羟基修饰的MOF材料浸泡在含有超痕量Hg(Ⅱ)的废水中。本发明中的羟基修饰的MOF材料对汞离子有较高的吸附容量和高选择性，以快速、高效地去除水溶液中的痕量Hg(Ⅱ)离子，吸附效果远高于其他吸附材料，最大吸附容量为278mg/g，对初始浓度为100ppb的汞离子溶液一次处理后去除率高达87.5%，残留汞离子浓度低于12.5μg/L，远低于国家废水排放标准（50μg/L)。