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公开(公告)号：CN117537956A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311468980.3
申请日：2023-11-07
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明属于热流传感标定技术领域，具体涉及一种基于半导体激光器和等离子喷涂装置的热流源产生方法，所述产生方法包括：激光器发射出激光；激光通过光学系统的准直镜头，实现大功率激光的均匀化；均匀化后的激光经过准直镜头后入射到热流传感器，同时等离子喷涂装置瞄准热流传感器，等离子喷涂装置输出的热流也入射到热流传感器中，通过热流传感器进行探测，热流传感器的信号传输给计算机进行数据采集和处理。本发明能够产生混合大热流，设计合理，具有稳定性、可靠性、安全性、重复性和便捷性等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117433664A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202311192333.4
申请日：2023-09-15
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城航空测控技术研究所 , 中北大学 , 北京长城航空测控技术研究所有限公司
IPC: G01K19/00
Abstract: 本发明提供一种薄膜热电堆热流传感器静态标定装置，涉及传感器技术领域，其包括激光器、整形模块、分束器、光阑和处理器；激光器发射不同功率的激光束；整形模块对激光束进行整形，得到能量密度均匀的第一平行光；分束器按照设定百分比将第一平行光分成第二平行光和第三平行光；第二平行光作用至标准传感器；光阑对第三平行光进行限制，得到设定光斑大小的第四平行光；第四平行光作用至待标定传感器；处理器根据待标定传感器和标准传感器的输出得到待标定传感器的灵敏度。本发明热流上限高、操作简单、稳定性高、重复性好、精度高和可批量标定。
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公开(公告)号：CN117537957A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311469318.X
申请日：2023-11-07
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明属于热流传感标定技术领域，具体涉及一种基于半导体激光器和等离子喷涂装置的热流源，所述热流源包括激光器、光学系统、等离子喷涂装置、热流传感器、计算机；所述激光器用于发射出激光；所述激光通过光学系统的准直镜头，实现大功率激光的均匀化；均匀化后的激光经过准直镜头后入射到热流传感器，同时等离子喷涂装置瞄准热流传感器，等离子喷涂装置输出的热流也入射到热流传感器中，通过热流传感器进行探测，热流传感器的信号传输给计算机进行数据采集和处理。本发明能够产生混合大热流，设计合理，具有稳定性、可靠性、安全性、重复性和便捷性等优点。
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公开(公告)号：CN117075326A
公开(公告)日：2023-11-17
申请号：CN202311035538.1
申请日：2023-08-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明属于激光器应用技术领域，具体涉及一种高功率激光能量均匀化衰减方法，其所涉及的激光能量衰减腔包括进水口、出水口、出射透镜组，漫反射取样腔离包括轴抛物反射镜、透光通道、漫反射套筒、均匀化透镜组。激光能量衰减腔内充满充当冷却水与衰减介质的液体，通过进水口与出水口与外置水冷连接。高功率激光通过离轴抛物反射镜在漫反射取样腔内部漫反射，小部分能量被漫反射套筒吸收，其余能量通过透光通道进行空间能量取样，取样后的激光通过均匀化透镜组被均匀化，均匀化的激光射入激光能量衰减腔其能量被腔内的衰减液体吸收。该方法能长时间衰减功率密度20kW/cm2的高功率激光，能连续调节激光衰减程度，实用性较强，满足工业生产及科研需求。
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公开(公告)号：CN117109777A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311035787.0
申请日：2023-08-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明属于传感器静态标定技术领域，具体涉及一种基于半导体激光器的薄膜热流传感器静态标定方法，以激光器为热流源，产生的激光经过准直镜头后，再通过伽利略式非球面透镜实现均匀输出，经过分束器将激光能量为5％的激光束入射到标准热流传感器，标准热流传感器的信号传输给计算机，从而通过电压控制系统控制激光器稳定输出；激光能量为95％的激光束通过可控光阑，整形激光光斑大小并作用于待标定热流传感器；根据标准热流传感器传输给数据采集系统的输出信号，从而静态标定待标定热流传感器。本发明能够进行大热流校准，设计合理，测试精度高，具有稳定性、可靠性、安全性、重复性和便捷性等优点，可同时标定多个热流传感器，达到批量标定的目的。
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公开(公告)号：CN117031733A
公开(公告)日：2023-11-10
申请号：CN202311035689.7
申请日：2023-08-17
Applicant: 中北大学
Abstract: 本发明属于激光器应用技术领域，具体涉及一种高功率激光能量均匀化衰减装置，其激光能量衰减腔包括进水口、出水口、出射透镜组和监控组件，漫反射取样腔离包括轴抛物反射镜、透光通道、漫反射套筒、均匀化透镜组。激光能量衰减腔内充满充当冷却水与衰减介质的液体，通过进水口与出水口与外置水冷连接。高功率激光通过离轴抛物反射镜在漫反射取样腔内部漫反射，小部分能量被漫反射套筒吸收，其余能量通过透光通道进行空间能量取样，取样后的激光通过均匀化透镜组被均匀化，均匀化的激光射入激光能量衰减腔其能量被腔内的衰减液体吸收。该装置能长时间衰减功率密度20kW/cm2的高功率激光，能连续调节激光衰减程度，实用性较强，满足工业生产及科研需求。
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