对钼铜合金进行处理的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119265524A

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN202411664620.5

    申请日:2024-11-20

    Abstract: 本申请的实施例涉及对金属基体表面的处理技术领域,具体涉及一种对钼铜合金进行处理的方法。该处理方法用于提高钼铜合金的耐热真空挥发特性,该处理方法可以包括:对钼铜合金基体的表面进行预处理,以去除钼铜合金基体的表面杂质;在钼铜合金基体的表面形成锆层。本申请的实施例提供的处理方法,通过在钼铜合金基体的表面形成锆层,提高了钼铜合金的耐热真空挥发特性,从而能够有效减少钼铜合金在高温真空条件下因挥发引起的失效。

    用于夹持透射电镜样品进行热真空挥发试验的夹具组件以及材料热真空挥发特性试验方法

    公开(公告)号:CN119470507A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202411642593.1

    申请日:2024-11-15

    Abstract: 本申请涉及测试材料的化学或物理性质技术领域,具体涉及一种用于夹持透射电镜样品进行热真空挥发试验的夹具组件以及材料热真空挥发特性试验方法。夹具组件包括:第一夹具、第二夹具和样品定位件。第一夹具和第二夹具连接以形成容纳腔,第一夹具形成有与容纳腔连通的检测孔,检测孔的尺寸小于透射电镜样品的尺寸。样品定位件至少部分设置于容纳腔,用于对透射电镜样品进行定位,以使透射电镜样品能够保持在与检测孔相面对的位置。本申请实施例通过第一夹具、第二夹具与样品定位件的配合,将透射电镜样品保持在与检测孔相面对的位置,从而能够将待进行热真空挥发特性测试的材料制作成透射电镜样品的形状,在夹具组件的夹持下进行热真空挥发试验。

    适用于电子束重熔样品的夹具
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119824212A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202510173883.4

    申请日:2025-02-17

    Abstract: 本申请的实施例涉及对金属材料的处理领域,具体涉及一种适用于电子束重熔样品的夹具,其包括底座、样品支撑组件、样品限位件以及锁紧件。样品支撑组件用于对样品提供支撑,并设置成能够带动样品相对于底座升降;样品限位件与底座固定连接,用于对样品沿水平方向的移动进行限位;锁紧件用于当样品支撑组件带动样品升高至高于样品限位件的上表面时,在样品的侧面将样品与样品限位件锁紧,以将样品固定。本申请的实施例提供的夹具,当样品支撑组件带动样品升高至高于样品限位件的上表面时,通过锁紧件在样品的侧面将样品与样品限位件锁紧,使得在电子束重熔时电子束的焦点能够高于样品限位件的上表面,以避免电子束对样品限位件造成破坏。

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