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公开(公告)号：CN112964409B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN202110175452.3
申请日：2021-02-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种大口径光学元件真空应力测试仪，用于大口径光学元件在真空条件下的应力测量。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪，采用不锈钢真空腔，连接分子泵实现高真空；在真空腔的底部铺设LED光源，光源上方分别放置偏振片和匀光片。真空腔室外侧布置支架，支架上布置二维导轨；导轨之上安装探测器，探测器内部自下而上分别布置四分之一波片和偏振片。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪适用于大口径光学元件真空状态下的应力分布，具有结构简单，操作方便的优点。
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公开(公告)号：CN109167247A
公开(公告)日：2019-01-08
申请号：CN201811337839.9
申请日：2018-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: H01S3/16
Abstract: 本发明公开了一种固体激光器。包括：半导体激光发生部件、光纤、耦合系统、全反镜、氧化镥陶瓷和输出镜；所述耦合系统包括准直透镜和聚焦透镜；所述准直透镜、聚焦透镜、全反镜、氧化镥陶瓷和输出镜的几何中心在一条直线上；所述半导体激光发生部件发出的激光通过所述光纤后，依次经过所述准直透镜、聚焦透镜和全反镜，聚焦在氧化镥陶瓷的几何中心，并从所述输出镜射出。本发明提供的固体激光器为基于氧化镥陶瓷的固体激光器，具有热效应小、结构简单和成本低的优势。
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公开(公告)号：CN107020451A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710464482.X
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/082 , B23K26/064 , G02B26/10
Abstract: 本发明涉及激光领域。本发明提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进行旋转及移动，只需要旋转台进行旋转及平移台进行平移即可使输出的激光随旋转台的旋转进行环状运动。本发明的有益效果是：结构简单，适用于激光输出装置。
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公开(公告)号：CN111229541B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202010184859.8
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势，而且制备流程简单，操作方便，效率高，同时，对于非平板结构的元件，可以根据涂膜对象的形状特征，对储液器的形状进行适应性地调整，使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补，从而可以在储液器匀速升降的情况下，保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的，大幅提高涂膜的均匀性，简化升降控制机构的逻辑控制。
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公开(公告)号：CN113296178B
公开(公告)日：2022-07-19
申请号：CN202110642273.6
申请日：2021-06-09
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B5/18 , B23K26/362
Abstract: 本发明公开了一种CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅的方法，按照以下步骤进行：S1、设定CO2激光器的参数；S2、在熔石英表面烧蚀形成一个表面光滑的高斯型烧蚀凹坑；S3、检测高斯型烧蚀凹坑的表面形貌和轮廓是否无烧蚀沉积；S4、在熔石英表面烧蚀形成一个相邻的高斯型烧蚀凹坑；S5、重复步骤S4，直到各高斯型烧蚀凹坑构成预设的正弦相位光栅。采用以上方法，经济高效，能够利用CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅，不仅可以实现一维正弦相位光栅，而且可以方便灵活地实现多种结构二维正弦相位光栅的制备，并且制备的正弦相位光栅激光损伤阈值高，可以实现强激光光束分束，在多光束干涉微结构激光加工领域具有重要的应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112964409A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN202110175452.3
申请日：2021-02-06
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开一种大口径光学元件真空应力测试仪，用于大口径光学元件在真空条件下的应力测量。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪，采用不锈钢真空腔，连接分子泵实现高真空；在真空腔的底部铺设LED光源，光源上方分别放置偏振片和匀光片。真空腔室外侧布置支架，支架上布置二维导轨；导轨之上安装探测器，探测器内部自下而上分别布置四分之一波片和偏振片。本发明的大口径光学元件真空应力测试仪适用于大口径光学元件真空状态下的应力分布，具有结构简单，操作方便的优点。
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公开(公告)号：CN109821820B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201910182262.7
申请日：2019-03-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B08B7/00
Abstract: 本发明公开一种球墨铸铁表面激光清洗方法，调节激光清洗机的平均输出功率、重频、输出的激光脉宽、输出的光斑尺寸以及扫描速率，调节所述光斑作用在球墨铸铁表面，实现扫描激光对球墨铸铁表面石墨颗粒的有效去除，提升清洗效率，并保证在去除球墨铸铁表面石墨颗粒的同时，有效避免对球墨铸铁基体的损伤。
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公开(公告)号：CN109839387A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201910228707.0
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，包括以下步骤：S1：将大口径光学元件置于暗室内；S2：启动并调整全反射照明模块，使光线以全反射角入射大口径光学元件的表面；S3：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集；S4：关闭全反射照明模块；S5：启动并调整低角度入射照明模块；S6：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集。采用以上方法，避免了复杂的流程，简洁、高效、直观地实现了大口径光学元件表面污染和损伤的快速分辨和统计，解决了目前技术不能兼顾同时统计污染和损伤的问题。
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公开(公告)号：CN105948519B
公开(公告)日：2019-02-22
申请号：CN201610306938.5
申请日：2016-05-11
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供了一种熔石英激光损伤的无热残余应力修复方法，该方法通过截取激光器输出脉冲的峰值段，获得高峰值功率矩形激光脉冲；聚焦高峰值功率矩形激光脉冲，获得甚高峰值功率密度单激光脉冲；使用单激光脉冲瞬间气化剥离熔石英基底上的单点的损伤部位材料；控制单激光脉冲间隔，使基底充分冷却；利用单激光脉冲重复进行气化剥离，直至去除损伤部位全部材料。本发明方法有效控制了熔石英基底发生高温结构弛豫，获得了无热残余应力的熔石英损伤修复，提升了熔石英光学元件损伤点的抗损伤能力，抑制了熔石英光学元件表面损伤及其增长，延长了熔石英光学元件使用寿命，具有修复时间短、过程简洁高效、工艺稳定性好、可控性强、重复性高的优点。
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公开(公告)号：CN106932844B
公开(公告)日：2018-12-18
申请号：CN201710354588.4
申请日：2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法，包括：从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光；对二氧化碳激光进行聚焦；将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置；采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐照熔石英样片表面；然后放入氢氟酸溶液进行湿法刻蚀；对湿法刻蚀形成的熔石英微凹柱透镜阵列进行喷淋和超声清洗，得到熔石英微凹柱透镜阵列。本发明利用功率恒定的连续二氧化碳激光进行扫描辐照；简洁高效地直接在熔石英表面实现了一维的柱透镜阵列，例如平行微凹柱透镜阵列、正交微凹柱透镜阵列和螺旋微凹柱透镜阵列的制造，并且制造的微凹柱透镜阵列无实焦点，尤其适用于高功率光束整形等应用。
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