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公开(公告)号：CN119187951B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411747524.7
申请日：2024-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/38 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/046
Abstract: 本发明公开一种激光环切装置及其环切方法，属于激光环切技术领域，解决现有激光环切装置大多是被切割件自转而激光器固定，激光器不便于根据需要进行更换，切割精度和效率不高且存在安全隐患的技术问题。本发明包括：悬臂结构和样品搭载台，所述悬臂结构包括第一悬臂，所述第一悬臂为导光臂，所述导光臂包括臂壳、位于臂壳顶部的激光入射口、位于臂壳内部的导光组件以及位于臂壳下部的激光出射口，所述导光组件包括扩束镜、反射镜和扫描振镜；所述样品搭载台转动设置于所述悬臂结构的下方，且所述激光出射口朝向样品搭载台的一侧。本发明具有待切割样品无需转动，能保证安全，且方便切换多种激光器，切割精度和效率高等优点。
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公开(公告)号：CN109277372B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201811337942.3
申请日：2018-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种道路交通标线的激光清洗方法，该方法包括：对激光清洗机进行预热，调节所述激光清洗机输出激光的平均功率、重复频率和脉冲宽度；调节作用于道路交通标线上的激光光斑直径和激光光斑线长；将吸尘器的吸气嘴倾斜放置于距离激光作用点5cm‑10cm处；打开所述激光清洗机光闸，打开所述吸尘器，沿垂直于光斑线长方向同时水平移动所述激光清洗机输出头和所述吸尘器吸气嘴。本发明具有在不损伤路基的前提下有效去除道路交通标线，且清洗后的产物便于收集，对环境污染小的优点。
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公开(公告)号：CN111229541A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010184859.8
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势，而且制备流程简单，操作方便，效率高，同时，对于非平板结构的元件，可以根据涂膜对象的形状特征，对储液器的形状进行适应性地调整，使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补，从而可以在储液器匀速升降的情况下，保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的，大幅提高涂膜的均匀性，简化升降控制机构的逻辑控制。
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公开(公告)号：CN118950618A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411242098.1
申请日：2024-09-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种CO2激光‑低压等离子体原位复合清洗大口径光学元件的方法，包括：利用CO2激光‑低压等离子体复合清洗系统对污染后的光学元件进行清洗；设计CO2激光清洗路线，设定激光清洗参数，对光学元件进行CO2激光清洗；设定低压等离子体清洗参数，对光学元件进行低压等离子体清洗；通过对未污染、污染后、CO2激光清洗后和对低压等离子体清洗后的光学元件性能参数进行比较，对清洗参数进行优化，以获得CO2激光‑低压等离子体原位复合清洗大口径光学元件的最佳清洗参数。本发明可以实现大口径光学元件原位高效无损伤清洗，有效解决了激光清洗精密光学元件时表面易损伤和低压等离子体清洗效率低的难题。
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公开(公告)号：CN111229541B
公开(公告)日：2023-09-22
申请号：CN202010184859.8
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势，而且制备流程简单，操作方便，效率高，同时，对于非平板结构的元件，可以根据涂膜对象的形状特征，对储液器的形状进行适应性地调整，使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补，从而可以在储液器匀速升降的情况下，保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的，大幅提高涂膜的均匀性，简化升降控制机构的逻辑控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109839387A
公开(公告)日：2019-06-04
申请号：CN201910228707.0
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/94
Abstract: 本发明公开了一种快速统计大口径光学元件表面污染和损伤的方法，包括以下步骤：S1：将大口径光学元件置于暗室内；S2：启动并调整全反射照明模块，使光线以全反射角入射大口径光学元件的表面；S3：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集；S4：关闭全反射照明模块；S5：启动并调整低角度入射照明模块；S6：利用图像采集系统对大口径光学元件的表面进行图像采集。采用以上方法，避免了复杂的流程，简洁、高效、直观地实现了大口径光学元件表面污染和损伤的快速分辨和统计，解决了目前技术不能兼顾同时统计污染和损伤的问题。
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公开(公告)号：CN109570151A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201910072533.3
申请日：2019-01-25
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B08B7/00
Abstract: 本发明公开了一种液流超声复合辅助激光清洗光学元件的装置及清洗方法，包括激光清洗模块和液流超声复合辅助模块。采用以上装置和方法，在基于激光湿法清洗的基础上，引入超声振动与液流清洗，其中，所设计的超生振动台与光学元件直接接触，可以更加充分的利用超声资源，超声振动产生的热量起到清洗前预热的作用，能够消除或减小清洗过程中的残余应力，避免不必要的损伤，提升光学元件性能；同时超声振动与激光参数调谐，从而与液流中激光致声效应产生的声波达到共振，使清洗效果得到显著提升，液流减小了激光对光学元件可能造成的损伤，并避免了二次污染，由此实现了针对光学元件的高效、高质量清洗。
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公开(公告)号：CN119558157A
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202411607094.9
申请日：2024-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G06F30/25 , H01L23/544
Abstract: 本申请公开了一种六方晶格下阴影效应粒子碰撞点轨迹确定方法、设备、介质及产品，涉及干法刻蚀和薄膜沉积表面微观形貌理论模拟领域。本申请基于三维晶格堆叠的层数高度，将六方晶格模型拆分成奇数层晶格单元和偶数层晶格单元；通过对奇偶数层先分开计算再合并比对的方式，解决了相邻奇偶数层间空间位置错位的问题，降低数值化处理难度；通过确定垂线与粒子飞行轨迹线间的垂直距离，实时剔除了六方晶格模型轮廓表面下无碰撞的晶格单元，节约计算量；通过确定投影分量，得到粒子飞行过程中与表面三维形貌的碰撞点，实现碰撞点的高效定位，提高六方晶格下阴影效应粒子碰撞点轨迹确定的效率。
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公开(公告)号：CN119187951A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411747524.7
申请日：2024-12-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/38 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/046
Abstract: 本发明公开一种激光环切装置及其环切方法，属于激光环切技术领域，解决现有激光环切装置大多是被切割件自转而激光器固定，激光器不便于根据需要进行更换，切割精度和效率不高且存在安全隐患的技术问题。本发明包括：悬臂结构和样品搭载台，所述悬臂结构包括第一悬臂，所述第一悬臂为导光臂，所述导光臂包括臂壳、位于臂壳顶部的激光入射口、位于臂壳内部的导光组件以及位于臂壳下部的激光出射口，所述导光组件包括扩束镜、反射镜和扫描振镜；所述样品搭载台转动设置于所述悬臂结构的下方，且所述激光出射口朝向样品搭载台的一侧。本发明具有待切割样品无需转动，能保证安全，且方便切换多种激光器，切割精度和效率高等优点。
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公开(公告)号：CN112608035B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202011542250.X
申请日：2020-12-23
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明公开了一种熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，包括损伤点尺寸测量、飞秒激光改性、溶液腐蚀和残液清洗的步骤。采用以上技术方案的熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，先利用飞秒激光改性装置对熔石英元件需要去除的部分勾勒轮廓改性，再利用化学溶剂进行去除，不仅能够快速地去除包含损伤点的熔石英块体，完成对损伤点的复合修复，具有高效稳定的特点，而且可以避免热应力的残留，不影响熔石英元件的阈值。
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