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公开(公告)号:CN116175377A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202211608442.5
申请日:2022-12-14
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
Abstract: 本发明是关于一种复杂表面的抛光方法及防光晕光电玻璃窗的抛光设备。所述抛光方法包括以下步骤:将复杂表面分解为横向抛光面和纵向抛光面;按照横向抛光面的尺寸和形状定制尺寸和形状适配的横向抛光毛刷;按照纵向抛光面的尺寸和形状定制尺寸和形状适配的纵向抛光毛刷;分别使用所述横向抛光毛刷和纵向抛光毛刷对所述复杂表面的横向抛光面和纵向抛光面进行抛光。本发明所要解决的技术问题是如何对复杂表面进行抛光,使抛光面的尺寸精度高,表面粗糙度小;同时提高一次合格率,提高抛光效率,降低人工成本,从而更加适于实用。
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公开(公告)号:CN114264275A
公开(公告)日:2022-04-01
申请号:CN202111621883.4
申请日:2021-12-28
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: G01B21/30
Abstract: 本发明公开了一种微纳光栅表面粗糙度的无损检测方法,包括如下步骤:用去离子水、无水乙醇和异丙醇对微纳光栅进行超声清洗,氮气吹干将三甲基氯硅烷滴到表面皿中,与微纳光栅一同置于真空干燥环境下,使三甲基氯硅烷充分钝化微纳光栅的表面;将固化剂加入聚二甲基硅氧烷中,混合均匀,消泡,得到PDMS混合物;将PDMS混合物倒在表面皿中,再将微纳光栅置于PDMS混合物表面,将附着PDMS混合物的微纳光栅置于真空干燥环境中脱气、固化,得到凝固仍带有微纳光栅的硅胶膜;将该硅胶膜与微纳光栅进行脱模,用硅胶模进行粗糙度测试。本发明可实现对微纳光栅表面难以测量的侧壁、槽底、深孔等复杂结构进行采集和复制,为复杂的微纳结构表面粗糙度测试提供了新思路。
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公开(公告)号:CN113161247B
公开(公告)日:2022-01-28
申请号:CN202110484162.7
申请日:2021-04-30
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: H01L21/50 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , B81C3/00
Abstract: 本发明是关于静电键合方法和装置以及使用该方法制备的光电阴极。该静电键合方法包括以下步骤:对第一基板的待键合面进行第一预处理;对第二基板的待键合面进行第二预处理;所述第一基板和第二基板的材质都选自电阻率在20℃下为1×1015~1×1019Ω·cm的无机材料;对第二基板的待键合面进行电子轰击,使第二基板的待键合面产生表面电位;所述的表面电位大于3V;将第一基板的待键合面与第二基板的待键合面贴合,在加压和加热的条件下,对第一基板和第二基板进行键合。本发明提出的静电键合方法通过静电吸引将两个或多个相同材质或不同材质的基板键合在一起,且键合基板材质中不需要含有碱金属离子,即使基板的厚度较大时也容易实现。
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公开(公告)号:CN113219570A
公开(公告)日:2021-08-06
申请号:CN202110484128.X
申请日:2021-04-30
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明是关于一种可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件及其制备方法和应用,所述可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件包括基底,所述基底具有接收和透过入射光的正面以及相对的背面,所述基底的正面设有亚微米量级的微结构周期阵列;所述微结构周期阵列包括底面直径不同的两种微纳结构单元。本发明所提供的可见光‑近红外宽光谱增透型光栅式光学元件,通过在光学元件表面构建复合型微纳结构阵列组合,以实现宽光谱的降低反射、增强透射的目的。本发明的光学元件可单独作为光学镜头、或光学窗口使用,也可与常规的光学镜头或光学窗口耦合使用,来提升相关仪器设备的综合性能。
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公开(公告)号:CN113193059A
公开(公告)日:2021-07-30
申请号:CN202110486159.9
申请日:2021-04-30
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: H01L31/0236 , H01L31/0216 , H01L31/18
Abstract: 本发明是关于微结构玻璃基片及其制备方法,该微结构玻璃基片包括玻璃基底层和光电发射材料层,所述的玻璃基底层具有呈网格状分布的光栅凹槽结构,所述的光栅凹槽结构由若干第一方向的凹槽和若干第二方向的凹槽相互交叉形成,所述的凹槽的开口朝向所述的光子出射面,所述的凹槽内填充有氧化物膜层;所述的凹槽的尺寸与光电发射材料层的厚度满足如下关系:W×(Δ+W)=1000×D,其中,W为凹槽的宽度,Δ为相邻两个凹槽的间距,D为光电发射材料层的厚度。本发明通过对玻璃基片的出射面进行微结构加工,形成特殊材料结构光栅,增加光子传播路径,提高光谱灵敏度。
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公开(公告)号:CN111574067B
公开(公告)日:2021-07-27
申请号:CN202010421571.8
申请日:2020-05-18
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明是关于一种具有光吸收层的光学玻璃及其制备方法,该制备方法包括:在还原气氛下,对待处理的光学玻璃进行第一处理,所述第一处理的压力为0.5MPa~100MPa;在还原气体和氮气的混合气氛下,对所述第一处理后的光学玻璃进行第二处理,所述第二处理的温度T满足:Tg
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公开(公告)号:CN113161247A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN202110484162.7
申请日:2021-04-30
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: H01L21/50 , H01L21/67 , H01L21/68 , H01L31/0216 , H01L31/0224 , B81C3/00
Abstract: 本发明是关于静电键合方法和装置以及使用该方法制备的光电阴极。该静电键合方法包括以下步骤:对第一基板的待键合面进行第一预处理;对第二基板的待键合面进行第二预处理;所述第一基板和第二基板的材质都选自电阻率在20℃下为1×1015~1×1019Ω·cm的无机材料;对第二基板的待键合面进行电子轰击,使第二基板的待键合面产生表面电位;所述的表面电位大于3V;将第一基板的待键合面与第二基板的待键合面贴合,在加压和加热的条件下,对第一基板和第二基板进行键合。本发明提出的静电键合方法通过静电吸引将两个或多个相同材质或不同材质的基板键合在一起,且键合基板材质中不需要含有碱金属离子,即使基板的厚度较大时也容易实现。
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公开(公告)号:CN109052933B
公开(公告)日:2020-09-08
申请号:CN201811044926.5
申请日:2018-09-07
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
IPC: C03C3/093
Abstract: 本发明涉及一种耐碱玻璃及其制备方法。所述的耐碱玻璃按质量百分含量计包含以下组分:SiO2,45‑68%;B2O3,3‑5%;Al2O3,1‑3%;第一组分,9‑14%;第二组分,9‑19.5%;ZrO2,8‑12.5%;HfO2,0‑1%;所述的玻璃的制备包括以下步骤:按配方量将原料混合,得到第一混合物;在所述的第一混合物中加入澄清剂,混合,得到第二混合物;将所述的第二混合物经熔制、机械搅拌、辅助鼓泡澄清、漏制或压制成型。所述的耐碱玻璃同时具有优异的耐碱金属侵蚀性能、耐碱溶液侵蚀性能以及光学透过性能,并具有较长的料性,使玻璃的加工性能优异。
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公开(公告)号:CN111517642A
公开(公告)日:2020-08-11
申请号:CN202010360866.9
申请日:2020-04-30
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
Abstract: 本发明涉及一种耐碱玻璃及其制备方法和应用。所述的耐碱玻璃按重量百分比计,包含以下组分:SiO2 47‑69%;B2O3 2.6‑4.5%;Al2O3 0.5‑2.5%;第一组分9‑13%;第二组分9‑20.5%;ZrO2 7.6‑12%;HfO2 0‑1%;还包含澄清剂;所述澄清剂为CeO2;所述CeO2的重量占所述耐碱玻璃重量的0.10%‑0.30%;所述的玻璃的制备包括以下步骤:按玻璃组分的配方量将原料混合,得到第一混合物;在所述的第一混合物中加入澄清剂CeO2,得到第二混合物;将所述的第二混合物经熔制、机械搅拌、辅助鼓泡澄清、漏制或压制成型。本发明所述的耐碱玻璃同时具有优异的耐碱金属侵蚀性能和光学透过性能,并具有较长的料性,可应用在需多次反复加工领域,玻璃加工性能优异。
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公开(公告)号:CN110078376A
公开(公告)日:2019-08-02
申请号:CN201910313597.8
申请日:2019-04-18
Applicant: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
Abstract: 本发明是关于一种多孔玻璃材料的制备方法、由该方法制备的多孔玻璃材料及其应用。所述制备方法的工艺步骤如下:由第一耐酸水平的玻璃和第二耐酸水平的玻璃制备基体玻璃;将所述的基体玻璃切割、打磨和抛光处理;将所述的基体玻璃置于酸溶液中腐蚀,至所述的第一耐酸水平的玻璃全部消解,取出,得多孔玻璃毛坯;所述的多孔玻璃毛坯经清洗,烘干,加工成特定尺寸和形状,得多孔玻璃材料。所述多孔玻璃材料的制备方法操作简单、工艺稳定性好,通过调节第一玻璃粉体与第二玻璃粉体的粒径、比例,调节基体玻璃粉的粒径以及腐蚀液浓度和腐蚀工艺参数可制得微米孔径的多孔玻璃材料,其孔径大小均匀、孔隙率高且抗压强度高。
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