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公开(公告)号：CN103149608B
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201310033860.0
申请日：2013-01-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法，所述对准方法是通过光刻工艺在每个微透镜单元的口径顶点处做出一个直径为几微米的圆形平面区域。利用显微镜下处于阵列中心的横纵两排顶点圆心的连线，可以确定微透镜阵列的XY轴。将CCD图像传感器软件界面上位置保持不变的十字分划线作为对准的基准，调节对准所用的自制装置，分别使探测器和微透镜阵列的XY轴与作为基准的十字分划线对齐，实现了微透镜阵列与探测器的对准。该方法将深浮雕微透镜阵列中单元口径顶点作为实际对准标识，解决了标记对准法中由于刻蚀边缘陡直度差、标记漂移等原因导致对准精度低的问题。
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公开(公告)号：CN102621803B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201210107639.0
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103149608A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201310033860.0
申请日：2013-01-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明是一种无标记深浮雕微透镜阵列与探测器的对准方法，所述对准方法是通过光刻工艺在每个微透镜单元的口径顶点处做出一个直径为几微米的圆形平面区域。利用显微镜下处于阵列中心的横纵两排顶点圆心的连线，可以确定微透镜阵列的XY轴。将CCD图像传感器软件界面上位置保持不变的十字分划线作为对准的基准，调节对准所用的自制装置，分别使探测器和微透镜阵列的XY轴与作为基准的十字分划线对齐，实现了微透镜阵列与探测器的对准。该方法将深浮雕微透镜阵列中单元口径顶点作为实际对准标识，解决了标记对准法中由于刻蚀边缘陡直度差、标记漂移等原因导致对准精度低的问题。
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公开(公告)号：CN103100730A
公开(公告)日：2013-05-15
申请号：CN201310033272.7
申请日：2013-01-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B23B25/06
Abstract: 本发明一种衍射元件的计算机辅助对心装校装置及方法，包括车床主轴、位置传感器、卡盘、专用夹具、驱动器、螺纹压圈、镜座、硅胶、衍射元件、车床导轨、车刀、分化板、超长工作距显微物镜、光源、半反半透镜、CCD相机、CCD成像透镜组、计算机、十字标记；在衍射元件中心加工出用于对心的特殊十字标记，对心检测单元检测对心偏差的同时，计算机根据位置传感器反馈的位置数据自动调节卡盘位置，直到对心精度满足公差要求，卡盘的自动调节停止。最后定心车削装有衍射元件的镜座再装入镜筒。该方法和装置解决了衍射元件对心装校时无法产生对心球心像、手动调节卡盘效率低和精度低等问题，实现衍射元件对心装校的计算机辅助控制。
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公开(公告)号：CN103100730B
公开(公告)日：2015-04-22
申请号：CN201310033272.7
申请日：2013-01-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B23B25/06
Abstract: 本发明一种衍射元件的计算机辅助对心装校装置及方法，包括车床主轴、位置传感器、卡盘、专用夹具、驱动器、螺纹压圈、镜座、硅胶、衍射元件、车床导轨、车刀、分化板、超长工作距显微物镜、光源、半反半透镜、CCD相机、CCD成像透镜组、计算机、十字标记；在衍射元件中心加工出用于对心的特殊十字标记，对心检测单元检测对心偏差的同时，计算机根据位置传感器反馈的位置数据自动调节卡盘位置，直到对心精度满足公差要求，卡盘的自动调节停止。最后定心车削装有衍射元件的镜座再装入镜筒。该方法和装置解决了衍射元件对心装校时无法产生对心球心像、手动调节卡盘效率低和精度低等问题，实现衍射元件对心装校的计算机辅助控制。
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公开(公告)号：CN102621803A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210107639.0
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种尖劈型超透镜的制备方法，用于制造实现超分辨成像的尖劈型超透镜。其主要步骤为：在平整的紫外透明基底上依次涂布或沉积牺牲层和掩蔽层；在掩蔽层上涂光刻胶，曝光得到直线结构；将直线结构刻蚀传递到掩蔽层；用掩蔽层做掩蔽，对牺牲层进行各向同性刻蚀，使掩蔽层部分悬空；倾斜蒸镀多层膜；去除牺牲层、掩蔽层，得到尖劈型超透镜。本发明该方法只需要通过常规的光刻、IBE刻蚀、RIE刻蚀或湿法腐蚀、阴影蒸镀，就可以制备得到用于实现超分辨成像的尖劈型超透镜。
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公开(公告)号：CN102621602A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210107959.6
申请日：2012-04-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供一种双平面超分辨成像透镜的制备方法，其步骤为：在紫外透明的基片上制备亚微米级深度的平底凹槽，凹槽平行于基片表面的截面形状为圆形、正方形、正八边形或长方形；在基片上涂布一层银的前驱体溶液，银的前驱体溶液在表面张力的作用下会在凹槽位置形成弧面膜层，经加热或紫外光照射后前驱体溶液固化为银膜；然后在银膜层上涂布一层溶胶状介质，溶胶状介质在表面张力的作用下会在凹槽位置形成另一个弧面膜层，经加热后溶胶状介质固化为介质膜；依此类推，直到将凹槽填平，就得到了物面和像面均为平面的缩放倍率超分辨成像透镜。本发明该双平面缩放倍率超分辨成像透镜能够二维或一维的缩小光刻或放大成像。
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