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公开(公告)号：CN116234413A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202211741780.6
申请日：2022-12-29
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本公开提供一种压电陶瓷驱动阵列及面形调整方法，压电陶瓷驱动阵列包括：依次叠设的底板电极层、压电陶瓷阵列及绝缘层，底板电极层包括阵列排布的底板电极；压电陶瓷阵列包括至少一层压电陶瓷阵列单元，多层压电陶瓷阵列单元层叠设置，每一层压电陶瓷阵列单元包括叠设的正电极层和负电极层；正电极层包括第一压电陶瓷薄片及形成于其表面的正电极阵列，负电极层包括第二压电陶瓷薄片及形成于其表面的负电极阵列；同一正电极层上各个正电极之间相互独立，不同正电极层上相同位置的正电极之间邻接后连接至对应位置的底板电极；同一负电极层上每一个负电极与相邻的至少一个负电极连接，不同负电极层边缘上相同位置的负电极之间邻接后连接至外部电路。
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公开(公告)号：CN115741584A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211645084.5
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B25B27/02
Abstract: 本公开提供一种分块施压压力装置及分块施压方法，分块施压压力装置包括：外围框架、压力头、工装和锁紧螺杆，其中：外围框架设有受压区域，压力头对准受压区域；工装夹设在外围框架内，工装设有多个安装孔，每个安装孔中安装一个压力头，压力头之间相互独立；外围框架上设有与压力头数量相等的第一限位孔，一个第一限位孔插入有一根锁紧螺杆，一根锁紧螺杆对准一个压力头；第一限位孔中设置有与锁紧螺杆配合的螺纹，锁紧螺杆与螺纹相互作用，将力矩转化为沿垂直于受压区域方向推动压力头的作用力。该装置及方法避免了传统整体施压受力均匀度不高的问题，提高了工件装配的成功率，并且，装置整体结构简单，易于装配，适用性强。
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公开(公告)号：CN117894733A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311713566.4
申请日：2023-12-13
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: H01L21/683
Abstract: 本公开提供一种动态静电吸盘及其制备方法，该动态静电吸盘自上而下依次包括：静电吸附模块(1)，包括介电层(12)、电极层(13)和基体(14)，介电层(12)上设有凸点阵列(11)，用于通过静电力吸附晶圆(4)；面型调节模块(2)，包括压电陶瓷驱动器阵列(21)，用于通过施加电压动态调控晶圆(4)的面型；底座(3)，用于承载静电吸附模块(1)和面型调节模块(2)，以及引出压电陶瓷驱动器阵列(21)的电极引线。本公开的动态静电吸盘在稳定吸附晶圆的同时可以实现对晶圆面型的精密控制。
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公开(公告)号：CN115741584B
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202211645084.5
申请日：2022-12-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: B25B27/02
Abstract: 本公开提供一种分块施压压力装置及分块施压方法，分块施压压力装置包括：外围框架、压力头、工装和锁紧螺杆，其中：外围框架设有受压区域，压力头对准受压区域；工装夹设在外围框架内，工装设有多个安装孔，每个安装孔中安装一个压力头，压力头之间相互独立；外围框架上设有与压力头数量相等的第一限位孔，一个第一限位孔插入有一根锁紧螺杆，一根锁紧螺杆对准一个压力头；第一限位孔中设置有与锁紧螺杆配合的螺纹，锁紧螺杆与螺纹相互作用，将力矩转化为沿垂直于受压区域方向推动压力头的作用力。该装置及方法避免了传统整体施压受力均匀度不高的问题，提高了工件装配的成功率，并且，装置整体结构简单，易于装配，适用性强。
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