一种工件基体表面的防护薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN102758174A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210230205.X

    申请日:2012-07-02

    Abstract: 本发明提供了一种工件基体表面的防护膜,该防护膜具有由钛膜与铝膜组成的多层膜,其中钛膜与铝膜交替层叠形成周期排列,一个周期中钛膜与铝膜的厚度之和为200~1000nm,防护薄膜的总厚度大于4μm。与现有的工件表面的保护膜相比,该防护膜结构新颖,表面平整致密,能够对工件基体表面进行有效防护。尤其是采用磁控溅射沉积技术制备得到的该防护膜,由于钛膜和铝膜的交替沉积,使钛膜和铝膜的柱状晶结构相互被打断,抑制了贯穿薄膜的孔隙,从而有效解决了钛膜或铝膜等单层膜由于柱状晶结构间存在孔隙而影响对工件基体表面的防护效果的问题。

    一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液

    公开(公告)号:CN101880882A

    公开(公告)日:2010-11-10

    申请号:CN201010221313.1

    申请日:2010-07-01

    Abstract: 本发明公开了一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液。该退镀液以氢氧化钠作为腐蚀剂,碳酸钠作为辅助盐,还包括可以促进金属铝溶解的络合剂、减缓基体腐蚀的缓蚀剂以及使铝镀层均匀溶解的表面活性剂。与现有技术相比,本发明一种烧结钕铁硼表面铝镀层的退镀液因其合理的组分与含量的设计,能够快速均匀地退除烧结钕铁硼表面铝镀层,同时降低了对烧结钕铁硼基体的损伤,另外,本发明的退镀液具有生产成本低、稳定性高以及使用周期长的特点。

    一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN102602071B

    公开(公告)日:2015-01-07

    申请号:CN201210063873.8

    申请日:2012-03-12

    Abstract: 本发明公开了一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法和应用。本发明的太阳能选择性吸收涂层由下而上依次包括基底层、TiAlN薄膜吸收层和SiO2薄膜减反射层,优选采用反应磁控溅射方法在基底上形成TiAlN薄膜吸收层,采用反应磁控溅射方法在吸收层上形成SiO2薄膜减反射层。本发明的制备工艺清洁简单,易于控制,所制备的涂层在太阳能光谱范围具有高的收率,在中远红外区域具有低的发射率。此外,本发明太阳能选择性吸收涂层具有中高温稳定性,可应用于真空或非真空平板集热器、建筑一体化集热器等领域,满足太阳能集热器在中高温时的使用要求。

    一种金属基体表面Al-Mn合金防护镀层的制备方法

    公开(公告)号:CN103103588A

    公开(公告)日:2013-05-15

    申请号:CN201310064167.X

    申请日:2013-02-28

    Abstract: 本发明提供了一种金属基体表面Al-Mn合金防护镀层的制备方法。具体地,本发明利用离子液体在金属基体表面电沉积Al-Mn合金防护镀层的制备方法。该Al-Mn合金防护镀层是在室温离子液体体系中电沉积得到。其电镀液是由二取代氯化咪唑(R1R2IC)、无水氯化铝(AlCl3)和无水氯化锰(MnCl2)配制而成。与以往在水溶液中电沉积金属防护镀层相比,该防护镀层更加致密平整,与基体结合更好,耐腐蚀性能有显著提高,性能优于离子液体电沉积纯铝防护镀层。同时离子液体不燃烧、不蒸发、可重复使用,不会产生电镀废水,对环境绿色友好。

    一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN102602071A

    公开(公告)日:2012-07-25

    申请号:CN201210063873.8

    申请日:2012-03-12

    Abstract: 本发明公开了一种太阳能选择性吸收涂层及其制备方法和应用。本发明的太阳能选择性吸收涂层由下而上依次包括基底层、TiAlN薄膜吸收层和SiO2薄膜减反射层,优选采用反应磁控溅射方法在基底上形成TiAlN薄膜吸收层,采用反应磁控溅射方法在吸收层上形成SiO2薄膜减反射层。本发明的制备工艺清洁简单,易于控制,所制备的涂层在太阳能光谱范围具有高的收率,在中远红外区域具有低的发射率。此外,本发明太阳能选择性吸收涂层具有中高温稳定性,可应用于真空或非真空平板集热器、建筑一体化集热器等领域,满足太阳能集热器在中高温时的使用要求。

    一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法

    公开(公告)号:CN101724820B

    公开(公告)日:2011-04-20

    申请号:CN200810121903.X

    申请日:2008-10-22

    Abstract: 本发明涉及一种用于钕铁硼工件表面防护的磁控溅射沉积铝膜的方法,其特征在于:包括如下步骤:(1)、在真空室内安装纯度大于98%的铝靶,使其与水平面的角度在45°~90°之间;(2)、对钕铁硼工件进行除油、除锈处理;(3)、把钕铁硼工件放置在工件托架上;(4)、抽真空,使真空室内的真空度不大于1×10-3Pa;(5)、对钕铁硼工件进行溅射沉积铝膜,采用惰性气体为工作气体,工作气压为0.1~10Pa,单位靶面积的溅射功率为1~6w/cm2,采用至少一个铝靶对钕铁硼工件进行溅射,溅射时间为1~5h;(6)、采用手动机械手翻转钕铁硼工件;(7)、对钕铁硼工件进行溅射沉积,采用惰性气体为工作气体,工作气压为0.1~10Pa,单位靶面积的溅射功率为1~6w/cm2,采用至少一个溅射靶对钕铁硼工件进行溅射,溅射时间为1~5h。

    一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法

    公开(公告)号:CN101634011A

    公开(公告)日:2010-01-27

    申请号:CN200810120011.8

    申请日:2008-07-21

    Abstract: 本发明涉及一种实现工件外表面均匀镀膜的磁控溅射装置及方法,该装置包括真空室,磁控溅射靶和工件托架,其特征在于:所述磁控溅射靶安装在真空室的顶部呈密封连接结构,靶头伸入真空室内,且靶头与磁控溅射靶的连接轴之间为可转动连接,所述工件托架安装在真空室内的底部。与现有技术相比,本发明的优点在于:通过将磁控溅射靶安装在真空室的顶部并且将靶头与磁控溅射靶的连接轴之间设为可转动连接,磁控溅射靶的靶头能根据工件的大小和位置调整溅射方向,以达到最佳的溅射的范围。通过将工件托架上的工件托盘设为行星式转动,既保证每个工件托盘溅射条件相同,又能保证托盘上各个位置所放工件溅射条件相同。

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