一种制备Ti2CCl2 MXene的方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118062849A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202211481488.5

    申请日:2022-11-24

    Abstract: 本发明公开了一种制备Ti2CCl2MXene的方法。所述方法为将亚氯化钛前驱体或特定比例的Ti或TiH2和TiCl4的混合物作为钛源前驱体,与碳源气体反应合成Ti2CCl2MXene。与传统选择性侵蚀法相比,本发明不仅可解决传统侵蚀法难以获得纯度高、缺陷少的高质量MXene的难题,还具有合成效率高、成本低优点,具有显著的经济效益和社会效益。

    一种撞击流耦合流化床制备高质量氮化硅粉体的系统及方法

    公开(公告)号:CN115432677B

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202110625946.7

    申请日:2021-06-04

    Abstract: 本发明公开了一种撞击流耦合流化床制备高质量氮化硅粉体的系统及方法。气相硅源和氨气在导流反应器中高速撞击并发生反应,然后依次在流化床中经过脱卤、深度脱卤、分解、晶化等步骤可制备杂质含量低、α相含量高、粒径细且分布窄的高质量氮化硅粉体。本发明解决了传统硅胺前驱体转化法中气相合成路线难以获得低氯含量的氮化硅粉体的难题,同时与传统溶剂热液相合成法和硅胺前驱体液相合成法相比,本发明可解决前驱体吸湿防护难的问题,并且能够实现连续批量化制备高质量氮化硅粉体,生产效率高,成本更低。

    一种制备纯相Si2N2O空心球形粉体的系统及方法

    公开(公告)号:CN114634167B

    公开(公告)日:2023-12-19

    申请号:CN202210226826.4

    申请日:2022-03-08

    Abstract: 本发明公开了一种制备纯相Si2N2O空心球形粉体的系统及方法,该方法利用硅源气和氮源气混合反应得到硅胺前驱体和卤化铵混合物,利用氧源气对硅胺前驱体粉体增氧,获得含氧前驱体球形粉体,在流化床中进行副产物脱除和前驱体热分解得到纯相Si2N2O空心球形粉体。本发明不仅解决了传统工艺难以获得高分散、高球形度纯相Si2N2O空心球形粉体的难题,同时能够实现连续批量化制备,工艺流程简单,生产效率高。

    一种制备纯相多壳层Si2N2O空心球形粉体的系统和方法

    公开(公告)号:CN114634168B

    公开(公告)日:2023-11-28

    申请号:CN202210226837.2

    申请日:2022-03-08

    Abstract: 本发明公开了一种制备纯相多壳层Si2N2O空心球形粉体的系统和方法。该方法首先通过硅源气与氮源气混合反应获得硅胺前驱体,随后交替利用氧源气和硅源气与氮源气的组合气,获得多壳层球形含氧前驱体,最后经高温热分解获得纯相多壳层Si2N2O空心球形粉体。本发明不仅解决了传统工艺难以获得高分散、高球形度多壳层纯相Si2N2O空心球形粉体的难题,同时能够实现连续批量化制备,工艺流程简单,生产效率高。

    一种多级流化床制备高质量氮化硅粉体的方法

    公开(公告)号:CN115432674A

    公开(公告)日:2022-12-06

    申请号:CN202110625468.X

    申请日:2021-06-04

    Abstract: 本发明公开了一种多级流化床制备高质量氮化硅粉体的方法,所述方法包括预反应工序(1)、脱卤工序(2)、深度脱卤工序(3)、分解工序(4)、晶化工序(5)、冷却工序(6)和副产物收集工序(7),可制备杂质含量低,α相含量高,粒径细且分布窄的高质量氮化硅粉体。本发明解决了传统硅胺前驱体转化法中气相合成路线难以获得低氯含量氮化硅粉体的难题,同时与传统溶剂热液相合成法和硅胺前驱体液相合成法相比,本发明可解决前驱体吸湿防护难的问题,同时能够实现连续批量化制备高质量氮化硅粉体,生产效率更高,大幅度降低了高质量氮化硅粉体的成本。

    一种流态化化学气相沉积锆包覆层的系统及方法

    公开(公告)号:CN110318031B

    公开(公告)日:2021-05-04

    申请号:CN201910619516.7

    申请日:2019-07-10

    Abstract: 本发明公开了一种流态化化学气相沉积锆包覆层的系统及方法。初始原料粉体在流化床内经过预处理,随后在包覆流化床中实现锆包覆层的制备。本发明制备锆包覆材料具有以下优势:(1)包覆材料的形状和尺寸不受限制,能够在非常复杂形状零部件或粉体上沉积Zr包覆层;(2)生产成本低,环境友好,能够实现锆源的循环利用;(3)显著降低了传统Zr包覆层的温度;(4)通过连续进出料的流化床,从而能够实现连续规模化批量生产,具有良好的经济效益和社会效益。

    一种低温介稳流态化工艺制备TiOxCyNz包覆粉体的系统及方法

    公开(公告)号:CN110182841A

    公开(公告)日:2019-08-30

    申请号:CN201811397716.4

    申请日:2018-11-22

    Abstract: 本发明公开了一种低温介稳流态化工艺制备TiOxCyNz包覆粉体的系统及方法,成本低廉的TiCl4经过连续处理后被还原成包覆前驱体,随后前驱体在介稳流化反应器中的粉体表面发生还原和(或)氮化和(或)碳化和(或)氧化反应,从而沉积在粉体表面获得TiOxCyNz包覆粉体。本发明制备TiOxCyNz包覆粉体具有以下优势:(1)突破了传统工艺中HCl对被包覆粉体和生产设备材料的限制,显著拓展了气相沉积制备TiOxCyNz包覆粉体的种类,并降低了传统工艺设备成本;(2)突破了现有低成本流态化气相沉积制备TiOxCyNz包覆粉体的温度下限,显著降低了制备TiOxCyNz包覆粉体的温度;(3)工艺经济,环保,产业前景好,能生产多种TiOxCyNz包覆粉体,具有良好的经济效益和社会效益。

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