一种AlN/Si3N4复合陶瓷基板及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119797930A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202411954239.2

    申请日:2024-12-27

    Abstract: 本发明属于材料生产技术领域,公开了一种AlN/Si3N4复合陶瓷基板及其制备方法和应用。该复合陶瓷基板是将Si粉和烧结助剂EuO2‑HfO2‑MgO‑Yb2O3,通过流延工艺和n×m矩阵的圆柱模具制备Si基陶瓷素片;将Al2O3粉、C粉与Yb2O3粉,制备Al2O3‑C流延浆料,将Al2O3‑C流延浆料填补Si基陶瓷素片的圆孔中,得到Si‑Al2O3‑C复合陶瓷素片,在1320~1380℃经过氮化处理,然后经1600~1800℃反应烧结制得。该复合陶瓷基板以AlN陶瓷为导热通路,Si3N4陶瓷为力学支撑,具有优异的导热性能和力学性能。本发明生产稳定高效,可用于汽车电子、航天航空等领域。

    一种基于光固化成型的高效氮化硅浆料及其陶瓷低温烧结成型方法

    公开(公告)号:CN119775022A

    公开(公告)日:2025-04-08

    申请号:CN202411713076.9

    申请日:2024-11-27

    Abstract: 本发明公开了一种基于光固化成型的高效氮化硅浆料及其陶瓷低温烧结成型方法,包括,β相氮化硅粉末、高温粘结剂、烧结助剂在乙醇溶液中球磨分散,干燥研磨后得陶瓷混合粉体;在光敏树脂中加光引发剂与阻氧剂,搅拌均匀后得到预混液;陶瓷混合粉末和预混液混合,加分散剂、触变剂,搅拌均匀并真空脱泡后得到氮化硅陶瓷浆料。本发明有效解决传统的氮化硅陶瓷浆料光固化成型单层固化厚度低的技术缺陷,实现单层50μm层厚打印的高精度、无缺陷样品,有效提高了打印效率。同时引入高温粘结剂磷酸二氢铝,在脱脂过程中利用其分解产生的偏铝酸盐将氮化硅颗粒粘结,解决脱脂后粉末间空隙较多较大的问题,以实现致密氮化硅陶瓷制备。

    一种基于DLP-3D打印的氮化硅陶瓷及其制备方法

    公开(公告)号:CN118930281A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410988727.9

    申请日:2024-07-23

    Abstract: 本发明涉及一种基于DLP‑3D打印的氮化硅陶瓷及其制备方法,氮化硅陶瓷浆料包括光敏树脂、分散剂、氮化硅粉体、光引发剂,按质量份数计为:氮化硅粉体60~80份,光敏树脂10~30份,分散剂1~10份,光引发剂0.1~5份;光敏树脂为单官能团树脂、双官能团树脂、三官能团树脂的混合物。将光敏树脂、分散剂、氮化硅粉体混合搅拌均匀,加入氮化硅研磨球,球磨,加入光引发剂,继续球磨,得到氮化硅陶瓷浆料,进行DLP‑3D打印,清洗后得到氮化硅陶瓷生坯;将氮化硅陶瓷生坯脱脂排胶处理,气压烧结得到氮化硅陶瓷。与现有技术相比,本发明可形成稳定的高固相含量、低粘度的氮化硅光敏浆料,DLP‑3D打印可获得力学性能优秀的氮化硅陶瓷。

Patent Agency Ranking