一种高占空比微透镜阵列的制作方法

    公开(公告)号:CN114609705B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202210219944.2

    申请日:2022-03-08

    Abstract: 本发明公开了一种高占空比微透镜阵列的制作方法,包括下列步骤:针对目标微透镜阵列的面形设计制作掩模板,在基片上涂布光刻胶,通过单次或多次掩模曝光获得多台阶结构,实时动态热熔,实现台阶结构流动成平滑曲面,制作出高占空比的微透镜阵列。本发明方法可以制作小口径的微透镜阵列,微透镜的口径范围为几微米到几十微米,可以制作任意排布的球面或非球面微透镜阵列,精确控制微透镜面形,微透镜阵列占空比接近百分之百。

    一种高占空比微透镜阵列的制作方法

    公开(公告)号:CN114609705A

    公开(公告)日:2022-06-10

    申请号:CN202210219944.2

    申请日:2022-03-08

    Abstract: 本发明公开了一种高占空比微透镜阵列的制作方法,包括下列步骤:针对目标微透镜阵列的面形设计制作掩模板,在基片上涂布光刻胶,通过单次或多次掩模曝光获得多台阶结构,实时动态热熔,实现台阶结构流动成平滑曲面,制作出高占空比的微透镜阵列。本发明方法可以制作小口径的微透镜阵列,微透镜的口径范围为几微米到几十微米,可以制作任意排布的球面或非球面微透镜阵列,精确控制微透镜面形,微透镜阵列占空比接近百分之百。

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