大口径光学元件研磨加工阶段面形与亚表面缺陷的线扫描式快速干涉检测装置

    公开(公告)号:CN118758960B

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202411237522.3

    申请日:2024-09-05

    Abstract: 本发明涉及一种大口径光学元件研磨加工阶段面形与亚表面缺陷的线扫描式快速干涉检测装置,涉及光学干涉测量技术领域。本发明的线扫描式快速干涉检测装置包括:光源、信号传输通道、样品臂、参考臂以及光谱探测器;样品臂中在光路方向上依次包括:色散元件,振镜系统以及远心扫描场镜;被测元件设置在靠近远心扫描场镜的位置;信号传输通道中设有分束镜。本发明的检测装置在完成大口径光学元件研磨阶段高精度面形检测的同时还能够实现被测元件面形、表面/亚表面缺陷同步检测,以线扫描方式扩大了扫描视场,提高检测效率至少一倍,且只需要在样品臂增加一个色散元件,通过数据处理算法处理扫描线的并行数据,检测结果可以直观的高对比的图像展现。

    大口径光学元件研磨加工阶段面形与亚表面缺陷的线扫描式快速干涉检测装置

    公开(公告)号:CN118758960A

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:CN202411237522.3

    申请日:2024-09-05

    Abstract: 本发明涉及一种大口径光学元件研磨加工阶段面形与亚表面缺陷的线扫描式快速干涉检测装置,涉及光学干涉测量技术领域。本发明的线扫描式快速干涉检测装置包括:光源、信号传输通道、样品臂、参考臂以及光谱探测器;样品臂中在光路方向上依次包括:色散元件,振镜系统以及远心扫描场镜;被测元件设置在靠近远心扫描场镜的位置;信号传输通道中设有分束镜。本发明的检测装置在完成大口径光学元件研磨阶段高精度面形检测的同时还能够实现被测元件面形、表面/亚表面缺陷同步检测,以线扫描方式扩大了扫描视场,提高检测效率至少一倍,且只需要在样品臂增加一个色散元件,通过数据处理算法处理扫描线的并行数据,检测结果可以直观的高对比的图像展现。

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