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公开(公告)号:CN115961248A
公开(公告)日:2023-04-14
申请号:CN202211567023.1
申请日:2022-12-07
Applicant: 中国航发动力股份有限公司
Abstract: 本发明提供一种单晶叶片热障涂层修复方法,对出现受损单晶叶片进行高压碱煮去除YSZ陶瓷面层,采用自动化吹干砂去除渗铝层,得到表面干净的单晶叶片;对表面干净的单晶叶片表面依次进行渗铝和渗铝扩散,并进行湿吹砂处理,清洗后采用电子束气相沉积法涂YSZ陶瓷面层,完成修复,本申请操作步骤简单,修复效率高效果好,对修复后的单晶导叶进行检测,导叶的壁厚、喉道面积、气膜孔影响很小,补渗铝后深度、浓度均满足设计要求,重新进行陶瓷面层涂覆后的涂层结合力满足设计要求,能够极大的降低单晶叶片损坏后的维修成本。
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公开(公告)号:CN115722866A
公开(公告)日:2023-03-03
申请号:CN202211582188.6
申请日:2022-12-07
Applicant: 中国航发动力股份有限公司
IPC: B23P6/00 , B23K1/00 , B23K103/02
Abstract: 本发明提供一种单晶叶片焊接盖板修复方法,磨削清除单晶叶片的受损盖板,对补焊盖板进行退火去应力处理后设置于单晶叶片原盖板区域,防止盖板补焊过程出现变形;将盖板长边与导叶搭接部位进行划线,对划线内部区域进行间隔点焊,防止点焊过程中焊液流入单晶叶片内部扰流柱间隙内;在距离盖板长边与导叶搭接对接焊缝预设范围内外涂抹红色阻流剂,气膜孔处涂注白色阻流剂,防止焊接过程中,出现钎料外溢,影响单晶叶片的结构功能;将钎料均匀涂于盖板相接处,并进行钎焊,完成盖板修复;本申请针对单晶叶片的结构特性以及用途,针对性提供退火热应力去除、间隔点焊和涂覆阻流剂,实现单晶叶片的修复,可操作性强,降低了单晶叶片维护成本。
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