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公开(公告)号：CN116848162A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202180083298.5
申请日：2021-12-02
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C08F220/24
Abstract: 本发明提供一种用于成膜用溶液的含氟聚合物，其能够形成在浸渍于显影液时不易产生残渣的膜。本发明的含氟聚合物的特征在于包含下述式(1)所示的重复单元和下述式(2)所示的重复单元，以下述式(1)所示的重复单元为基准的质量百万分率表示，上述式(2)所示的重复单元的含量为1500ppm以下。在式(1)和式(2)中，R1、R2各自独立地为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基，R3、R4各自独立地为氢原子、甲基或乙基，R5为氢原子或三氟甲基，R6为氢原子、氯原子、甲基或三氟甲基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116615410A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202180083395.4
申请日：2021-12-02
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C07C69/653
Abstract: 本发明提供一种每批次的重均分子量的偏差少的含氟聚合物的制造方法。本发明的含氟聚合物的制造方法的特征在于，为制造包含下述式(1)所示的重复单元和下述式(2)所示的重复单元的含氟聚合物的方法，包括：含氟单体合成工序，使下述式(3)所示的二醇与选自不饱和羧酸、上述不饱和羧酸的酯、上述不饱和羧酸的酰卤和上述不饱和羧酸的酸酐中的至少一种反应，得到包含作为主反应物的下述式(4)所示的含氟单体和作为副反应物的下述式(5)所示的含氟单体的组合物；含氟单体纯化工序，从上述组合物中除去上述式(5)所示的含氟单体，以上述式(4)所示的含氟单体为基准的质量百万分率表示，使上述式(5)所示的含氟单体的含量为1500ppm以下；聚合工序，使用上述含氟单体纯化工序后的上述组合物进行聚合反应，制成包含下述式(1)所示的重复单元和下述式(2)所示的重复单元的含氟聚合物。在式(1)、式(2)、式(3)、式(4)和式(5)中，R1、R2各自独立地为氢原子、甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基，R3、R4各自独立地为氢原子、甲基或乙基，R5为氢原子或三氟甲基，R6为氢原子、氯原子、甲基或三氟甲基。
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公开(公告)号：CN116888236A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280014736.7
申请日：2022-02-16
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C09K3/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种新型的表面调整剂，其可通过导入至感光性树脂组合物中，改善适宜用作分隔壁材料的含氟树脂的表面粗糙度。本发明为一种表面调整剂，其包含具有下述通式(1)所表示的结构的含氟树脂(A)。#imgabs0#通式(1)中，Ra分别独立地表示碳原子数为1～6的直链状烷基、碳原子数为3～6的支链状烷基或碳原子数为3～6的环状烷基或者氟原子，上述烷基的任意数量的氢原子被氟原子取代。
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公开(公告)号：CN116745361A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202280010618.9
申请日：2022-02-07
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: C08L33/14
Abstract: 本发明涉及一种树脂组合物，其包含具有来自通式(I)所表示的聚合性单体的结构单元的聚合物。通式(I)中，R1为包含至少一个聚合性基团的基团，R2及R3分别独立地为氢原子、或者直链或支链的脂肪族烃基，R4为氢原子、或者直链或支链的脂肪族烃基，且脂肪族烃基所具有的氢原子的一部分或全部能够被酸基或羟基取代，R5为二价～四价的直链或支链的脂肪族烃基，且脂肪族烃基的氢原子的一部分或全部能够被氟原子或羟基取代，R6及R7分别独立地表示含氟烷基，n表示1～5的整数，当n为2以上时，多个R2能够相同也能够不同，并且，多个R3能够相同也能够不同，m表示1～3的整数，当m为2或3时，存在多个的R6能够相同也能够不同，并且，存在多个的R7能够相同也能够不同。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118973347A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410951636.8
申请日：2019-05-23
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，通过上述清洗工序，上述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，通过上述加热工序，上述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118945925A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411073072.9
申请日：2019-05-23
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板是在基板上形成有具有图案的图案膜的带图案膜基板，上述图案膜含有具有特定重复单元的含氟共聚物；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序。
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公开(公告)号：CN112219451B
公开(公告)日：2024-08-23
申请号：CN201980034689.0
申请日：2019-05-23
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板是在基板上形成有具有图案的图案膜的带图案膜基板，上述图案膜含有具有特定重复单元的含氟共聚物；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序。
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公开(公告)号：CN112205077B
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN201980034770.9
申请日：2019-05-23
Applicant: 中央硝子株式会社
IPC: H05B33/10 , C08F22/18 , G09F9/00 , G09F9/30 , H10K50/10 , H10K59/10 , H10K71/00 , H05B33/12 , H05B33/22
Abstract: 本发明的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，通过上述清洗工序，上述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，通过上述加热工序，上述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。
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公开(公告)号：CN115702387A
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202180040366.X
申请日：2021-05-21
Applicant: 中央硝子株式会社
Abstract: 本发明提供一种发光元件的制造方法，其能够以不使第一发光层产生损伤的方式制造具备第一发光层及形成在第一发光层上的隔堤的发光元件。本发明的发光元件的制造方法包括：基底元件准备工序，其中，准备在基材上配置有单色的第一发光层的基底元件；含氟树脂图案膜形成工序，其中，将光敏性树脂组合物以划分出所述基底元件的至少一部分区域的方式配置在所述基底元件上而形成含氟树脂图案膜，所述光敏性树脂组合物至少包含含氟树脂、溶剂及光聚合引发剂，所述含氟树脂包含由具有氟原子的烃组成的重复单元且具有交联部位；及烘烤工序，其中，通过以200℃以下的温度对所述含氟树脂图案膜进行烘烤而使其固化。
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