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公开(公告)号：CN116548084A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202280001575.8
申请日：2022-05-31
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 云南创视界光电科技有限公司
Abstract: 本申请公开了一种显示基板及显示装置，属于显示技术领域。显示基板，包括：驱动背板、第一电极层、像素定义层、有机发光层和第二电极层。由于至少部分有机材料层中位于隔断槽内的部分，与位于隔断槽外的部分断开。因此任意两个相邻的发光器件之间的有机材料层均被隔断槽断开。这样，当第一电极上加载电压时，第一电极和第二电极层之间形成的电场，使得各个发光器件中的部分有机材料层产生的漏电流被隔断槽隔开，也即是，使得发光器件中的有机材料层产生的漏电流不会横向导向至与这个发光器件相邻的有机材料层中，进而使得这个发光器件的发光不会对相邻的发光器件的发光造成影响。如此，可以保证显示基板的显示效果较好。
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公开(公告)号：CN118742115A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202410832573.4
申请日：2022-04-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 云南创视界光电科技有限公司
IPC: H10K59/122 , H10K59/121 , H10K59/123 , H10K59/131
Abstract: 一种显示装置、显示面板及其制造方法。显示面板包括驱动背板(BP)、第一电极层(FE)、像素定义层(PDL)、发光层(OL)和第二电极(CAT)，第一电极层(FE)设于驱动背板(BP)一侧面，且包括多个第一电极(ANO)；像素定义层(PDL)与第一电极层(FE)设于驱动背板(BP)的同一侧面，且露出各第一电极(ANO)；像素定义层(PDL)包括沿背离驱动背板(BP)的方向层叠的填充层(PBR)和截断层(PCL)，填充层(PBR)的厚度小于第一电极层(FE)；截断层(PCL)设有位于第一电极(ANO)以外的分隔槽(SES)，分隔槽(SES)的侧壁设有第一截断槽(CUS1)；发光层(OL)覆盖截断层(PCL)和第一电极层(FE)；第二电极(CAT)覆盖发光层(OL)。
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公开(公告)号：CN116548091A
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202280000913.6
申请日：2022-04-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 云南创视界光电科技有限公司
IPC: H10K59/122 , H10K71/00
Abstract: 一种显示装置、显示面板及其制造方法。显示面板包括驱动背板(BP)、第一电极层(FE)、像素定义层(PDL)、发光层(OL)和第二电极(CAT)，第一电极层(FE)设于驱动背板(BP)一侧面，且包括多个第一电极(ANO)；像素定义层(PDL)与第一电极层(FE)设于驱动背板(BP)的同一侧面，且露出各第一电极(ANO)；像素定义层(PDL)包括沿背离驱动背板(BP)的方向层叠的填充层(PBR)和截断层(PCL)，填充层(PBR)的厚度小于第一电极层(FE)；截断层(PCL)设有位于第一电极(ANO)以外的分隔槽(SES)，分隔槽(SES)的侧壁设有第一截断槽(CUS1)；发光层(OL)覆盖截断层(PCL)和第一电极层(FE)；第二电极(CAT)覆盖发光层(OL)。
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公开(公告)号：CN119836165A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202311333339.9
申请日：2023-10-13
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H10K59/35 , H10K59/122 , H10K59/131 , H10K59/12 , H10K71/10 , H10K71/20
Abstract: 本公开至少一实施例提供一种显示基板及其制备方法，该显示基板包括：衬底基板；阵列设置在衬底基板上的像素单元，其中，每个像素单元包括发射不同颜色光线的多个子像素，每个子像素包括发光元件和驱动对应的发光元件发光的像素驱动电路；设置在像素驱动电路的远离衬底基板的一侧的像素界定层；该像素界定层包括多个像素开口，每个像素开口对应一个子像素，本公开的实施例通过分别三次沉积不同颜色的发光层和功能层，以及两次曝光刻蚀的图形化技术，实现了RGB全彩OLED像素化器件的制备，解决了将AMOLED蒸镀技术拓展至中大尺寸显示产品中时，显示分辨率无法进一步提升的问题，而且还提升了显示器件的分辨率和显示效果。
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公开(公告)号：CN115428163B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180000573.2
申请日：2021-03-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K59/122 , H10K59/121 , H10K59/131 , G09G3/3225
Abstract: 一种显示装置、显示面板及其制造方法、驱动电路及驱动方法，该显示面板(100)包括驱动背板(2)及发光器件层(4)，其中：驱动背板(2)包括多个像素驱动电路(21)；发光器件层(4)包括多个呈阵列分布的发光单元，发光单元包括向背离驱动背板(2)的方向层叠设置的多个发光器件(41)；在垂直于驱动背板(2)的方向上，距离驱动背板(2)最近的发光器件(41)以外的发光器件(41)为透明器件；同一发光单元中，至少部分发光器件(41)与像素驱动电路(21)连接，用于在像素驱动电路(21)的驱动下发光，同一发光单元中至少有两个发光器件(41)的发光材料不同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112271265B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202011155134.2
申请日：2020-10-26
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H10K50/856 , H10K50/858 , H10K50/828 , H10K50/816 , H10K59/12 , H10K59/40 , H10K59/60 , H10K71/00
Abstract: 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板，包括位于衬底基板第一侧的薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单元，沿远离所述衬底基板的方向，所述发光单元依次包括透光阳极、发光层和透光阴极；所述显示基板还包括：位于所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧的光学结构，所述光学结构能够反射第一波段的光，透射所述第一波段之外的光，所述第一波段为所述发光层发出的光线的波段。本发明的技术方案能够改善显示装置的显示效果。
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公开(公告)号：CN118773543A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202310368507.1
申请日：2023-04-07
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请公开一种掩模版及制备方法，涉及薄膜技术领域，通过在掩模版用于形成掩模图形的第一遮挡结构中设置磁吸金属层，使得掩模版能够通过磁吸力抵抗重力下垂效应，保证显示面板上图形结构的制备精度，进而提高显示面板的产品品质。掩模版，包括：第一区域，包括第一遮挡结构和多个镂空，所述第一遮挡结构在所述第一区域的正投影围绕所述镂空在所述第一区域的正投影，所述第一遮挡结构用于形成掩模图形；第二区域，所述第二区域围绕所述第一区域，所述第二区域包括第二遮挡结构；第一遮挡结构在厚度方向上的侧面包括至少一个第一凸部和至少一个第一凹部，第一凸部和所述第一凹部相连接；第一遮挡结构包括金属层，第二遮挡结构包括含硅材料层。
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公开(公告)号：CN118265372A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410382232.1
申请日：2024-03-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC: H10K59/131 , H10K59/121 , H10K59/122 , H10K59/35 , H10K59/12 , H10K71/00
Abstract: 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，包括衬底；形成在所述衬底上的屏下摄像区，包括多个子像素区和围绕所述子像素区的透过区，其中，所述多个子像素区中每个子像素区包括阴极层，所述阴极层未延伸到所述透过区；阴极连接结构，用于与对应子像素区的阴极层电连接，以便通过阴极连接结构传递阴极信号。这样，不仅能够保证像素区的正常发光，还可以提高透过区的透过率，进而提高了屏下摄像区的透过率。
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公开(公告)号：CN113745307B
公开(公告)日：2024-05-10
申请号：CN202111057326.4
申请日：2021-09-09
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H10K59/126 , H10K59/121 , H10K59/35 , H10K71/00
Abstract: 本申请公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域。由于该显示面板(10)中多个子像素(102)的发光区域之间的间隙区域的有机功能膜层(1022)的第一部分(10221)的导电性，小于子像素(102)的发光区域的有机功能膜层(1022)的第二部分(10222)的导电性，因此能够避免子像素(102)的发光区域的第二部分(10222)的载流子通过间隙区域的第一部分(10221)传输至相邻子像素的发光区域的第二部分(10222)。由此，可以避免显示面板(10)中相邻子像素的电学串扰，确保显示装置的显示效果。
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公开(公告)号：CN113097420B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202110374368.4
申请日：2021-04-07
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置。所述电极制备方法包括：提供一衬底，所述衬底包括导电膜层；在所述导电膜层上形成平坦化层，在所述平坦化层上形成过孔；在所述过孔内形成过孔填充结构，所述过孔填充结构沿垂直于所述平坦化层方向的厚度等于所述过孔的深度；采用纳米压印工艺及干刻工艺，在所述平坦化层上形成电极层；所述电极层通过所述过孔填充结构与所述导电膜层电连接。本公开所述电极结构及其制备方法、显示基板、显示装置，能够减小电极层中各子电极单元之间的间隔与空隙，提高显示产品的PPI，增加显示产品显示内容的信息量，同时还避免产生摩尔纹显示不良。
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