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公开(公告)号:CN115668352A
公开(公告)日:2023-01-31
申请号:CN202180000532.3
申请日:2021-03-18
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G09G3/36
Abstract: 本公开实施例提供了一种移位寄存器、栅极驱动电路及显示装置,将第一输入电路和第二输入电路设置为对称结构设计,在正向扫描时,在输入阶段通过第一输入电路响应于第一输入信号端的信号可以将第一参考信号端的信号提供给第一节点,在复位阶段,通过第二输入电路响应于第二输入信号端的信号可以将第二参考信号端的信号提供给第一节点。在反向扫描时,在输入阶段通过第而输入电路响应于第二输入信号端的信号可以将第二参考信号端的信号提供给第一节点,在复位阶段,通过第一输入电路响应于第一输入信号端的信号可以将第一参考信号端的信号提供给第一节点。使第一节点的充电和放电在正反向扫描时都可以做到对称性设计,从而实现双向扫描的功能。
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公开(公告)号:CN113327537A
公开(公告)日:2021-08-31
申请号:CN202110671295.5
申请日:2021-06-17
Applicant: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种移位寄存器、栅极驱动电路及显示装置,属于显示技术领域。本公开的移位寄存器中包括第一辅助控制子电路和第二辅助控制子电路,第一辅助控制子电路用于在上拉节点为高电平时,将第一低电平写入下拉节点,将第二低电平写入控制节点,从而通过控制第一低电平和第二低电平的电压差,控制第一降噪子电路的工作状态,进而避免第一降噪子电路漏电而影响上拉节点的电位。其中,上拉节点是输入子电路、输出子电路、下拉子电路、第一降噪子电路、第一辅助控制子电路和复位子电路的连接节点;控制节点是第一降噪子电路、第一辅助控制子电路和第二辅助控制子电路的连接节点。
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公开(公告)号:CN113327537B
公开(公告)日:2022-08-16
申请号:CN202110671295.5
申请日:2021-06-17
Applicant: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本公开提供一种移位寄存器、栅极驱动电路及显示装置,属于显示技术领域。本公开的移位寄存器中包括第一辅助控制子电路和第二辅助控制子电路,第一辅助控制子电路用于在上拉节点为高电平时,将第一低电平写入下拉节点,将第二低电平写入控制节点,从而通过控制第一低电平和第二低电平的电压差,控制第一降噪子电路的工作状态,进而避免第一降噪子电路漏电而影响上拉节点的电位。其中,上拉节点是输入子电路、输出子电路、下拉子电路、第一降噪子电路、第一辅助控制子电路和复位子电路的连接节点;控制节点是第一降噪子电路、第一辅助控制子电路和第二辅助控制子电路的连接节点。
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公开(公告)号:CN105652486B
公开(公告)日:2019-07-09
申请号:CN201610236589.4
申请日:2016-04-15
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/13
Abstract: 本发明提供了一种取向膜涂覆检测方法及检测设备,涉及显示技术领域,用于提高检测取向膜涂覆效果的精准度。其中所述取向膜涂覆检测方法包括:读取待检测基板上的取向膜的图形;获取所述取向膜的图形,并在将所述取向膜的图形与储存的所述待检测基板的显示区域的图形对位后,测量所述取向膜的图形的边缘与所述显示区域的图形的边缘之间的距离。本发明提供的取向膜涂覆检测方法及检测设备用于检测取向膜涂覆的效果。
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公开(公告)号:CN105630264B
公开(公告)日:2019-01-18
申请号:CN201610096547.5
申请日:2016-02-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
Abstract: 本发明涉及显示技术领域,具体公开了一种触控基板及制作方法、驱动装置及驱动方法、显示装置。该触控基板:包括基底以及在设置在基底上的触控电极图形和走线图形,触控电极图形包括多个同层且平行设置的条状电极,走线图形包括多条走线;其中,每一个条状电极的第一端连接一条走线,第二端连接一条走线;且第一端延伸到触控基板的第一侧的边缘,第二端延伸到与触控基板第一侧相对的第二侧的边缘。本发明提供的触控基板在驱动时有效降低扫描次数,降低驱动功耗。且多个条状电极同层设置减小了工艺难度,同时还能够支持多点触控。
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公开(公告)号:CN105652486A
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201610236589.4
申请日:2016-04-15
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1309
Abstract: 本发明提供了一种取向膜涂覆检测方法及检测设备,涉及显示技术领域,用于提高检测取向膜涂覆效果的精准度。其中所述取向膜涂覆检测方法包括:读取待检测基板上的取向膜的图形;获取所述取向膜的图形,并在将所述取向膜的图形与储存的所述待检测基板的显示区域的图形对位后,测量所述取向膜的图形的边缘与所述显示区域的图形的边缘之间的距离。本发明提供的取向膜涂覆检测方法及检测设备用于检测取向膜涂覆的效果。
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公开(公告)号:CN105630264A
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:CN201610096547.5
申请日:2016-02-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
CPC classification number: G06F3/0416 , G06F3/0412 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04104 , G06F2203/04111
Abstract: 本发明涉及显示技术领域,具体公开了一种触控基板及制作方法、驱动装置及驱动方法、显示装置。该触控基板:包括基底以及在设置在基底上的触控电极图形和走线图形,触控电极图形包括多个同层且平行设置的条状电极,走线图形包括多条走线;其中,每一个条状电极的第一端连接一条走线,第二端连接一条走线;且第一端延伸到触控基板的第一侧的边缘,第二端延伸到与触控基板第一侧相对的第二侧的边缘。本发明提供的触控基板在驱动时有效降低扫描次数,降低驱动功耗。且多个条状电极同层设置减小了工艺难度,同时还能够支持多点触控。
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公开(公告)号:CN118825031A
公开(公告)日:2024-10-22
申请号:CN202410711003.X
申请日:2024-06-03
Applicant: 北京京东方创元科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L27/12 , H01L21/77 , G02F1/1345
Abstract: 本公开提供一种显示基板及其制备方法、显示面板,属于显示技术领域,其可解决现有显示基板由于邦定区面积过大导致显示装置边框尺寸难以压缩的问题。本公开的显示基板划分为显示区和位于显示区一侧依次设置的第一扇出区、第二扇出区和邦定区;显示基板包括:第一衬底基板,包括相对设置的第一表面和第二表面,以及连接第一表面和第二表面的连接侧面;信号线,设置在第二表面上,由显示区穿过第一扇出区和第二扇出区延伸至邦定区;连接焊盘,位于邦定区且与信号线连接,且由第二表面延伸至连接侧面;由显示区指向邦定区的方向,邦定区宽度与第二扇出区宽度的比值为0.01:1~0.75:1。本公开通过减小显示基板邦定区的尺寸可以达到缩小显示装置边框尺寸的效果。
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公开(公告)号:CN118330926A
公开(公告)日:2024-07-12
申请号:CN202410536143.8
申请日:2024-04-29
Applicant: 北京京东方创元科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/1335 , G02F1/13357
Abstract: 本申请提供了一种显示面板及其制备方法和显示装置。该显示面板包括相对设置的阵列基板和彩膜基板以及设置于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层,彩膜基板设有多个遮光区以及位于相邻两遮光区之间的滤光区;彩膜基板包括朝向阵列基板的内表面;在阵列基板靠近液晶层的一侧设有多个第一透镜,在彩膜基板靠近液晶层的一侧设有多个第二透镜;第一透镜在内表面上的正投影至少部分位于滤光区,第二透镜在内表面上的正投影至少部分位于滤光区,第一透镜在内表面上的正投影与第二透镜在内表面上的正投影至少部分重叠,至少部分来自阵列基板的光线依次穿过第一透镜和第二透镜之后发生二次聚光之后入射至滤光区。可实现,提升显示面板的光利用率。
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