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公开(公告)号：CN101971095B
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：CN200980109009.3
申请日：2009-02-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/075 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/266 , G03F7/0047
Abstract: 用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。
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公开(公告)号：CN101918216B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200880104514.4
申请日：2008-08-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 单和多层正性工作可成像元件包括油墨接受性外层，该油墨接受性外层包括无机、非金属、惰性离散颗粒，例如纳米级氧化硅、氧化铝或二氧化钛颗粒。这些颗粒在最外层中的存在改进所述元件的耐磨损和刮擦性。
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公开(公告)号：CN101971095A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200980109009.3
申请日：2009-02-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/075 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/10 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/266 , G03F7/0047
Abstract: 用辐射敏感性可成像层制备的负性工作可成像元件，该辐射敏感性可成像层含有表面改性的二氧化硅颗粒例如热解法二氧化硅颗粒和溶胶凝胶二氧化硅颗粒，所述颗粒按大约1-大约40重量％的量存在，具有大约1-大约500nm的平均粒度，具有表面羟基，并具有大约0.5-大约15重量％的源自含1-30个碳原子的表面疏水性基团的碳含量。所述表面改性的二氧化硅颗粒的存在提供改进的耐磨性、降低的粘性和各种其它期望的性能。
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公开(公告)号：CN101884014A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN200880118874.X
申请日：2008-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。
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公开(公告)号：CN101884014B
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN200880118874.X
申请日：2008-11-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/033 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , B41C2210/266 , Y10S430/121
Abstract: 辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括1H-四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的1H-四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的可显影性，以提供具有改进的耐化学品性和耐印力的成像后或显影后元件，例如平板印版。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101689021B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200880023817.3
申请日：2008-06-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/0236 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , Y10S430/106 , Y10S430/127 , Y10S430/145 , Y10S430/146
Abstract: 单层和多层正性工作可成像元件包括吸油墨外层，该吸油墨外层包括主聚合物基料，所述主聚合物基料为聚(乙烯基苯酚)或具有一些酸基的酚聚合物。使用这种聚合物基料使得成像元件可在低pH(11或更小)碱性显影剂中显影。
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公开(公告)号：CN102483588A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080039504.4
申请日：2010-09-02
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/3057 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/262 , G03F7/322 , G03F7/40
Abstract: 本发明描述一种用于产生成像的平版印版的方法和装置，其中所述方法包括单步冲洗和从至少版的印刷面进行干燥，其中所述干燥步骤是在挤压经冲洗版之后立即进行。
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公开(公告)号：CN102483588B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201080039504.4
申请日：2010-09-02
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/3057 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/262 , G03F7/322 , G03F7/40
Abstract: 本发明描述一种用于产生成像的平版印版的方法和装置，其中所述方法包括单步冲洗和从至少版的印刷面进行干燥，其中所述干燥步骤是在挤压经冲洗版之后立即进行。
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公开(公告)号：CN102687074A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201080049810.6
申请日：2010-10-12
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: G03F7/004 , B41C1/10 , C08F220/44 , C08F220/58 , C08F220/60
CPC classification number: G03F7/0045 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/24 , B41C2210/262 , C08F220/44 , C08F220/58 , C08F220/60 , C08F222/40
Abstract: 平版印版前体可具有可成像层，该可成像层包括酸值为40meq/g KOH或更多的聚合物粘合剂、至少3重量％的衍生自一种或更多种N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺或(烷基)丙烯酸烷氧基甲酯的重复单元、至少2重量％的具有1H-四唑侧基的重复单元和至少10重量％的具有氰基侧基的重复单元。此类聚合物粘合剂的使用尤其向阳图制版型前体提供良好的可烘烤性和耐化学溶剂性。
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公开(公告)号：CN101918216A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN200880104514.4
申请日：2008-08-21
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/20 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/262
Abstract: 单和多层正性工作可成像元件包括油墨接受性外层，该油墨接受性外层包括无机、非金属、惰性离散颗粒，例如纳米级氧化硅、氧化铝或二氧化钛颗粒。这些颗粒在最外层中的存在改进所述元件的耐磨损和刮擦性。
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