公开(公告)号：CN109283787A

公开(公告)日：2019-01-29

申请号：CN201810734880.3

申请日：2018-07-06

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 宫川展明 ,  盐谷纱由

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16

Abstract: 提供一种功能构造体制造方法以及光致抗蚀剂处理装置，通过硬化提高光致抗蚀剂图案的耐热性但不使针对衬底的结合变得牢固，容易剥离且难以产生残渣。具有：在对在基板3上形成的光致抗蚀剂图案1照射紫外光来使光致抗蚀剂图案1固化的硬化工序后，对基板3上的未被光致抗蚀剂图案1覆盖的部位沉积功能层用膜20的膜沉积工序；以及将光致抗蚀剂图案1及载置于其上的功能层用膜20除去的剥离工序。硬化工序为以波长比光致抗蚀剂的曝光感光波长范围短的紫外线的累计光量比曝光感光波长范围的光的累计光量多的方式照射紫外线的工序。

公开(公告)号：CN101782724A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN201010004497.6

申请日：2010-01-21

Applicant: 优志旺电机株式会社

Inventor： 宫川展明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明的目的在提供一种在进行掩膜与工件的对位时，密封构件不会与掩膜台相接的接触曝光装置或接触曝光方法，接触曝光装置具备有：保持形成有图案的掩膜(2)的掩膜台(3)、及载置工件(4)的工件台(5)，在掩膜台(3)或工件台(5)的周边部安装环状的密封构件(6)，使被载置在工件台(5)的前述工件(4)与掩膜(2)相接触，在对通过掩膜(2)、掩膜台(3)、工件(4)、工件台(5)、与密封构件(6)所形成的空间进行减压后的状态下，将曝光光线通过掩膜(2)而照射在工件(4)上，其特征为：在密封构件(6)上安装有使密封构件(6)的前端部(62)的环状方向整体进行上下移动的移动机构(9)。