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公开(公告)号：CN1320375C
公开(公告)日：2007-06-06
申请号：CN03142916.5
申请日：2003-05-23
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/02 , G02F1/1335 , G03F7/00
Abstract: 在该制造方法中，在基板1的表面上涂覆光致抗蚀膜，在光致抗蚀膜2上通过光掩模7施以邻近曝光，然后进行显象处理，由此使光致抗蚀膜2形成图案，然后，进行热处理的工序，和在热处理过的光致抗蚀膜2上形成反射膜3的工序，在给定条件下实施邻近曝光。这时，可以制造高散射强度的扩散反射板。在该制造方法中，采用内侧形成扩散反射区域形成用图案A、外侧形成透明图案B的光掩模7，在基板1的表面上涂覆混入了相对于感光波长区域具有吸光性的吸光性材料的正型光致抗蚀膜，然后进行曝光。
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