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公开(公告)号：CN104907227B
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201410683427.6
申请日：2014-11-24
Applicant: 住友重机械工业株式会社 , 名幸电子有限公司
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种膜形成方法及膜形成装置，该膜形成方法中，即使增加膜厚，侧面的倾斜也不易变平缓。沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘，使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化，从而形成外缘部，之后，通过在比外缘部更靠内侧的区域，使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化来形成内侧部，由此形成由外缘部及内侧部构成且上表面凹陷的单元层。在单元层之上进一步堆积分别由外缘部及内侧部构成的其他单元层，且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状。
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公开(公告)号：CN105451897A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201480036121.X
申请日：2014-06-20
Applicant: 住友重机械工业株式会社 , 名幸电子有限公司
CPC classification number: H05K3/3452 , H05K3/28 , H05K2203/013 , H05K2203/1476
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法以及薄膜形成装置。沿基板(10)表面的应形成薄膜图案的预定区域(11)的边缘(12)形成脊状的阻挡结构(14)。形成阻挡结构(14)之后，使光固化性的液态的薄膜材料液滴化并着落于预定区域(11)内，然后对着落于预定区域(11)的薄膜材料照射临时固化用光以使其临时固化，从而形成膜要件(15A)。将光固化性的液态的薄膜材料涂布于膜要件(15A)之上而形成液态膜(16)。对液态膜(16)以及膜要件(15A)照射光强度比临时固化用光的光强度更强的正式固化用光，以使液态膜(16)固化，并且提高膜要件(16)的固化度。
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公开(公告)号：CN107662415B
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201710621072.1
申请日：2017-07-27
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
IPC: B41J11/00
Abstract: 本发明提供一种能够在基板的正反两面进行基板的定位的位置检测装置。支承部支承基板。至少一个摄像装置对支承于支承部的基板进行拍摄。处理部根据由一个摄像装置拍摄支承于支承部的基板的角部而得到的第1图像来求出基板的位置信息。之后，处理部根据由一个摄像装置拍摄将正反面翻转后支承于支承部的基板的角部而得到的第2图像、第1图像及根据第1图像而求出的基板的位置信息，求出正反面翻转后的基板的位置信息。
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公开(公告)号：CN109641465A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780042259.4
申请日：2017-08-09
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 去路(12)从油墨罐(11)将油墨输送至喷墨头(10)，回路(13)向其反方向输送油墨。旁通流路(18)不经由喷墨头(10)而从去路(12)向回路(13)输送油墨。清洗流路(15、16)向喷墨头(10)供给清洗液并从喷墨头(10)回收清洗液。切换部(30)切换如下状态：在包括去路(12)、喷墨头(10)、回路(13)及油墨罐(11)的循环路中使油墨循环的循环状态；以及在包括去路(12)、旁通流路(18)、回路(13)及油墨罐(11)的循环路中使油墨循环，并且通过清洗流路(15、16)向喷墨头(10)供给清洗液与从喷墨头(10)回收清洗液，由此进行喷墨头(10)的清洗的清洗状态。
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公开(公告)号：CN107662415A
公开(公告)日：2018-02-06
申请号：CN201710621072.1
申请日：2017-07-27
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
IPC: B41J11/00
Abstract: 本发明提供一种能够在基板的正反两面进行基板的定位的位置检测装置。支承部支承基板。至少一个摄像装置对支承于支承部的基板进行拍摄。处理部根据由一个摄像装置拍摄支承于支承部的基板的角部而得到的第1图像来求出基板的位置信息。之后，处理部根据由一个摄像装置拍摄将正反面翻转后支承于支承部的基板的角部而得到的第2图像、第1图像及根据第1图像而求出的基板的位置信息，求出正反面翻转后的基板的位置信息。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103801489A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201310344687.6
申请日：2013-08-08
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置。本发明的基板制造方法能够抑制因图像数据的校正处理而装置所占用的时间延长及成本增加的同时，考虑到基板的变形来形成薄膜。准备将定义在基板上应形成的薄膜的形状的光栅格式的图像数据压缩而成的压缩数据。测定基板的在面内方向上的变形量。根据所测定的变形量，对压缩数据以压缩格式状态实施像素的插入或去除处理来生成变形修正数据。根据所生成的变形修正数据在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN103718660B
公开(公告)日：2016-10-05
申请号：CN201280035355.3
申请日：2012-07-06
Applicant: 住友重机械工业株式会社
CPC classification number: H05K3/28 , B05D1/26 , H05K2203/0126
Abstract: 本发明提供一种基板制造装置，其底层基板保持于涂布台。喷嘴单元与保持于涂布台的底层基板对置，并从多个喷嘴孔朝向底层基板吐出薄膜材料的液滴。在贮存槽中蓄积薄膜材料。供给系统从贮存槽向喷嘴单元供给薄膜材料。第1热源对贮存槽进行加热。第1温度传感器对贮存槽的温度进行测定。第2热源对供给系统的至少一处进行加热。第2温度传感器对供给系统的至少一处的温度进行测定。温度控制装置根据第1温度传感器及第2温度传感器的测定结果对第1热源及第2热源进行控制，以使贮存槽内的薄膜材料的温度与在供给系统中流动的薄膜材料的温度限制在温度的目标范围内。
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公开(公告)号：CN105499069A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201510450812.0
申请日：2015-07-28
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
Abstract: 本发明提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。从与保持于载物台的基板对置的喷嘴头朝向基板吐出经液滴化的膜材料。移动机构使保持于载物台的基板和喷嘴头中的一个相对于另一个移动。存储装置存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息。控制装置根据图像数据控制喷嘴头及移动机构，由此在基板上形成膜。数据通过输入装置输入到控制装置。若从输入装置输入有膜厚指令值，则控制装置根据膜厚补正信息来补正膜厚指令值，由此计算比膜厚指令值厚的膜厚目标值，并且控制装置控制喷嘴头及移动机构以形成相当于膜厚目标值厚度的膜。
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公开(公告)号：CN103801489B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201310344687.6
申请日：2013-08-08
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板制造方法及基板制造装置。本发明的基板制造方法能够抑制因图像数据的校正处理而装置所占用的时间延长及成本增加的同时，考虑到基板的变形来形成薄膜。准备将定义在基板上应形成的薄膜的形状的光栅格式的图像数据压缩而成的压缩数据。测定基板的在面内方向上的变形量。根据所测定的变形量，对压缩数据以压缩格式状态实施像素的插入或去除处理来生成变形修正数据。根据所生成的变形修正数据在基板上形成薄膜。
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公开(公告)号：CN104349602A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201410341806.7
申请日：2014-07-17
Applicant: 住友重机械工业株式会社
Inventor： 冈本裕司
CPC classification number: H01L2224/32145 , H01L2224/48091 , H01L2224/49171 , H01L2224/73265 , H01L2924/00014 , H05K3/30 , H01L21/50 , H05K3/305
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成方法及薄膜形成装置，所述薄膜形成方法中，即使基板的表面为憎液性，也能够使薄膜材料覆盖应涂布的区域的整个区域。本发明的薄膜形成方法中，在憎液性的表面一边移动着落地点一边重复进行使光固化性的薄膜材料着落的处理、和着落后向表面上的薄膜材料照射光而使其固化的处理，由此在表面的应涂布薄膜材料的区域形成第1膜。通过在第1膜上涂布液状的薄膜材料，来形成液状的第2膜。在形成第2膜之后，照射光而使第2膜固化。
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