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公开(公告)号：CN108732659A
公开(公告)日：2018-11-02
申请号：CN201810340346.4
申请日：2018-04-17
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G02B1/115 , C03C17/3452 , C03C2217/228 , C03C2217/285 , C03C2217/73 , C03C2218/156 , C23C14/0694 , C23C14/08
Abstract: 本发明提供光学薄膜和光学元件的制造方法。设置在基底基材上的光学薄膜包括主成分为氧化镱的层和主成分为氟化镁的层。主成分为氟化镁的层布置在所述主成分为氧化镱的层上。主成分为氟化镁的层相对于主成分为氧化镱的层与基底基材相对配置。
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公开(公告)号：CN102628160A
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN201210023612.3
申请日：2012-02-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3428 , C23C14/3464 , C23C14/352 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3447
Abstract: 本发明公开了成膜装置和成膜方法。提供了能够防止通过溅射形成多种材料的薄膜时的装置机构的复杂化以简化装置机构并防止装置成本的升高的成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空室；用于保持基板的基板保持器；用于分别支撑靶使得靶可在真空室内与基板相对的阴极机构；以及可各自地在由不同的材料制成的靶和基板之间前后移动以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子的挡板。挡板中的至少一个由与用于靶的材料不同的靶材料形成，使得挡板中的至少一个被配置为还用作靶的挡板。
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公开(公告)号：CN102628160B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201210023612.3
申请日：2012-02-03
Applicant: 佳能株式会社
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3428 , C23C14/3464 , C23C14/352 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3447
Abstract: 本发明公开了成膜装置和成膜方法。提供了能够防止通过溅射形成多种材料的薄膜时的装置机构的复杂化以简化装置机构并防止装置成本的升高的成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括：真空室；用于保持基板的基板保持器；用于分别支撑靶使得靶可在真空室内与基板相对的阴极机构；以及可各自地在由不同的材料制成的靶和基板之间前后移动以阻挡或通过从靶产生的成膜粒子的挡板。挡板中的至少一个由与用于靶的材料不同的靶材料形成，使得挡板中的至少一个被配置为还用作靶的挡板。
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