公开(公告)号：CN1437045A

公开(公告)日：2003-08-20

申请号：CN03102309.6

申请日：2003-01-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 柴野由纪夫 ,  三原田悟 ,  上田修平 ,  渡部厚 ,  田畑正树

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/136 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/60 ,  B24B7/00 ,  B24C1/00 ,  C03C19/00 ,  G02F2001/133302 ,  Y10T428/315

Abstract: 公开一种大尺寸衬底，它具有不小于500mm的对角线长度和不大于6.0×10－6的平面度/对角线长度比率。通过把按照本发明的大尺寸衬底用于曝光，曝光精度被提高，特别是对齐精度和分辨率，因此可能获得大尺寸面板的高精度曝光。通过使用按照本发明的加工方法，有可能稳定获得高平面度的大尺寸光掩模衬底，由于在面板曝光时CD精度(尺寸精度)被提高，有可能执行精细图案的曝光，使面板进入更高的领域。另外，通过应用按照本发明的加工方法，也可能产生任意的表面形状。

公开(公告)号：CN100403097C

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN03102309.6

申请日：2003-01-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 柴野由纪夫 ,  三原田悟 ,  上田修平 ,  渡部厚 ,  田畑正树

IPC: G02F1/133 ,  G02F1/136 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F1/60 ,  B24B7/00 ,  B24C1/00 ,  C03C19/00 ,  G02F2001/133302 ,  Y10T428/315

Abstract: 公开一种大尺寸衬底，它具有不小于500mm的对角线长度和不大于6.0×10-6的平面度/对角线长度比率。通过把按照本发明的大尺寸衬底用于曝光，曝光精度被提高，特别是对齐精度和分辨率，因此可能获得大尺寸面板的高精度曝光。通过使用按照本发明的加工方法，有可能稳定获得高平面度的大尺寸光掩模衬底，由于在面板曝光时CD精度(尺寸精度)被提高，有可能执行精细图案的曝光，使面板进入更高的领域。另外，通过应用按照本发明的加工方法，也可能产生任意的表面形状。