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公开(公告)号：CN118620392A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410255911.2
申请日：2024-03-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物、及图案形成方法。本发明的课题为提供含有使上层抗蚀剂的感度、LWR、分辨度改善，对图案崩塌防止有贡献的热硬化性含硅材料的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及使用该抗蚀剂下层膜形成用组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物，含有为聚硅氧烷树脂的缩合反应型热硬化性含硅的材料(Sx)，其特征为：该材料具有会和自由基化学物种进行反应的非缩合反应性有机基团，该树脂中含有超过0且为70mol％以下的下述通式(Sx‑4)表示的重复单元或通式(Sx‑5)表示的重复单元中任一者以上，且该有机基团在聚硅氧烷树脂的热硬化反应后仍为未反应的状态而残留。#imgabs0#
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