公开(公告)号：CN111187235B

公开(公告)日：2023-06-06

申请号：CN201911101447.7

申请日：2019-11-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小野绘实子 ,  提箸正义 ,  福岛将大 ,  计良祐纪

IPC: C07D307/00 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/08 ,  C07D327/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。

公开(公告)号：CN111138586A

公开(公告)日：2020-05-12

申请号：CN201911040009.4

申请日：2019-10-29

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  提箸正义 ,  小野绘实子 ,  小野塚英之

IPC: C08F220/18 ,  C08F220/30 ,  C08F220/38 ,  C08F212/14 ,  C08F222/24 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明的课题是提供残存单体量少，使用于抗蚀剂组合物时，尤其会展现良好的LWR的聚合物的制造方法。一种聚合物的制造方法，是制造含有来自包含因曝光而分解并产生酸的结构的单体(A)的重复单元、来自具有酸不稳定基团的单体(B)的重复单元、及来自具有酚性羟基的单体(C)的重复单元，且聚合物中所含的单体(A)的残存量为1.0质量％以下的聚合物的制造方法，包含将含有单体(A)、单体(B)、及单体(C)的单体溶液供给到反应釜中的步骤、及在该反应釜内实施聚合反应的步骤，该反应釜内的单体溶液中的单体浓度为35质量％以上，且该单体溶液的溶剂(S)包含选自下式(S-1)及下式(S-2)所示的溶剂中的至少1种。

公开(公告)号：CN111187235A

公开(公告)日：2020-05-22

申请号：CN201911101447.7

申请日：2019-11-12

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 小野绘实子 ,  提箸正义 ,  福岛将大 ,  计良祐纪

IPC: C07D307/00 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07D333/76 ,  C07D333/08 ,  C07D327/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。