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公开(公告)号：CN111187235B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201911101447.7
申请日：2019-11-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D333/08 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111793054B
公开(公告)日：2023-07-07
申请号：CN202010256383.4
申请日：2020-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D319/06 , C07D321/06 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07D333/48 , C07D307/00 , C07D317/18 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。
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公开(公告)号：CN110963952B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN201910920497.1
申请日：2019-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C317/12 , C07C25/18 , C07C317/04 , C07C317/08 , C07C317/18 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D279/20 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D335/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07C211/63 , C07C211/64 , C07D277/10 , C07C215/40 , C07D487/18 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R1、R2和R3各自为含有除氟以外的杂原子的C1‑C20一价烃基，Z+为锍、碘鎓或铵阳离子。
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公开(公告)号：CN110963952A
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201910920497.1
申请日：2019-09-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C317/12 , C07C25/18 , C07C317/04 , C07C317/08 , C07C317/18 , C07C317/14 , C07C317/24 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D279/20 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D335/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07C211/63 , C07C211/64 , C07D277/10 , C07C215/40 , C07D487/18 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供具有式(1)的新型鎓盐和包含该鎓盐作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当使用高能辐射通过光刻法加工抗蚀剂组合物时，形成抗蚀剂图案，其在LWR和CDU方面得到改善。在式(1)中，R1、R2和R3各自为含有除氟以外的杂原子的C1-C20一价烃基，Z+为锍、碘鎓或铵阳离子。
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公开(公告)号：CN111793054A
公开(公告)日：2020-10-20
申请号：CN202010256383.4
申请日：2020-04-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D319/06 , C07D321/06 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07D333/48 , C07D307/00 , C07D317/18 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及锍化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖锍化合物，其是在以高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、各种光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用的；并提供含有该锍化合物作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明提供一种锍化合物，以下式(A)表示；以及提供一种化学增幅抗蚀剂组成物，含有由前述锍化合物构成的光酸产生剂及基础树脂。
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公开(公告)号：CN111187235A
公开(公告)日：2020-05-22
申请号：CN201911101447.7
申请日：2019-11-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D307/00 , C07C309/12 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07D333/08 , C07D327/06 , G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/30
Abstract: 本发明涉及新型盐化合物、化学增幅抗蚀剂组合物、及图案形成方法。本发明的课题是提供一种化学增幅抗蚀剂组合物，其在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，缺陷少，感度、LWR、MEF、CDU等优异；并提供使用该化学增幅抗蚀剂组合物的图案形成方法。一种盐化合物，其由下式(A)表示。
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