-
公开(公告)号：CN119493328A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411118547.1
申请日：2024-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 作为包括含有钌(Ru)的保护膜的反射型掩模坯料，通过包括基板、多层反射膜、保护膜、吸收膜和在保护膜和吸收膜之间的含有铌(Nb)且不含钌(Ru)的蚀刻阻止膜的反射型掩模坯料来提供反射型掩模坯料，其中保护膜难以受损并可抑制厚度的降低。
-
公开(公告)号：CN118348737A
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN202410636442.9
申请日：2024-05-22
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 樱井敬佑
Abstract: 本发明的反射型光掩模坯料具有：基板1；反射作为极端紫外线区域光的曝光光的多层反射膜2；用于保护多层反射膜2的保护膜3；吸收曝光光的光吸收膜4；以及与光吸收膜4相接形成的硬掩模。光吸收膜4是包含含氧的光吸收膜4的氧化层41及吸收层42的多层结构。硬掩模是包含第二层52、53(2A、2B)、或是包含第一层51及第二层52、53(2A、2B)多层结构。第二层52、53是包含含氧的上方硬掩模层52(2A)和下方硬掩模层53(2B)的多层结构。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112578628A
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN202011023453.8
申请日：2020-09-25
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/32
Abstract: 本发明涉及半色调相移型光掩模坯料、其制造方法以及半色调相移型光掩模。本发明提供了一种半色调相移型光掩模坯料，该半色调相移型光掩模坯料包括透明衬底和形成在该衬底上的半色调相移膜，并包括至少一个由硅、氮和氧构成的层。该半色调相移膜相对于波长至多200nm的曝光光具有至少150°且至多200°的相移和至少20％的透射率，并且具有表面粗糙度RMS至多为0.8nm的膜表面，以及根据以下表达式由掩模图案形成区域内的最大透射率Tmax和最小透射率Tmin计算的面内透射率变化为至多2％：(Tmax‑Tmin)/(Tmax+Tmin)×100。
-
公开(公告)号：CN119689774A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411312329.1
申请日：2024-09-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 将在保护膜上形成的能够通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻从而进行蚀刻的反射型掩模坯料的吸收膜图案化，其中，通过设有与保护膜和吸收膜两者接触的蚀刻阻止膜和吸收膜上的第一硬掩模膜，并使用第一硬掩模膜的图案作为蚀刻掩膜，通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻将吸收膜图案化。
-
公开(公告)号：CN119493327A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202411118546.7
申请日：2024-08-15
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 能够由能够通过使用含有氧(O)的气体的干法蚀刻图案化的吸收膜通过反射型掩模坯料形成细微且良好的吸收膜的图案，该反射型掩模坯料包括基板、在基板的一个主表面上形成的反射曝光光的多层反射膜、在多层反射膜上形成的吸收曝光光的吸收膜、和在吸收膜上的含有铌(Nb)的蚀刻掩模膜。
-
公开(公告)号：CN117055284A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310537547.4
申请日：2023-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种反射型光掩模坯料和制造反射型光掩模的方法。所述反射型光掩模坯料包括：衬底,反射曝光光的多层反射膜(所述曝光光是极紫外范围内的光)，保护膜，吸收曝光光的吸光膜，以及硬掩模膜，其与所述吸光膜接触地形成。所述硬掩模膜由多层构成，该多层包括第一层和第二层，所述第一层设置在离衬底最远的一侧，且由耐受氯基干刻蚀且可通过氟基干刻蚀去除的材料组成，并且第二层由耐受氟基干刻蚀且可通过氯基干刻蚀去除的材料组成。在一种条件下在氟基干刻蚀时吸光膜的刻蚀完成时间长于在相同条件下在氟基干刻蚀时硬掩模膜的第一层的刻蚀完成时间。
-
公开(公告)号：CN116909085A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202310388811.2
申请日：2023-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种反射型光掩模坯料，制造反射型光掩模的方法和反射型光掩模。所述反射型光掩模坯料包括：衬底，在衬底上形成且反射曝光光(即极紫外范围内的光)的多层反射膜，在多层反射膜上形成的保护多层反射膜的保护膜，在保护膜上形成并吸收曝光光的吸光膜，以及硬掩模膜，其形成于所述吸光膜上并与所述吸光膜接触，且在通过干刻蚀图案化所述吸光膜中充当硬掩模膜。所述硬掩模膜由多层构成，该多层包括第一层和第二层，所述第一层设置在离衬底最远的一侧，并由含硅且不含铬的材料组成，且第二层由含铬且不含硅的材料组成。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.027 seconds)
