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公开(公告)号：CN119689774A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411312329.1
申请日：2024-09-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 将在保护膜上形成的能够通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻从而进行蚀刻的反射型掩模坯料的吸收膜图案化，其中，通过设有与保护膜和吸收膜两者接触的蚀刻阻止膜和吸收膜上的第一硬掩模膜，并使用第一硬掩模膜的图案作为蚀刻掩膜，通过离子束蚀刻或甲醇蚀刻将吸收膜图案化。
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公开(公告)号：CN117055284A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310537547.4
申请日：2023-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种反射型光掩模坯料和制造反射型光掩模的方法。所述反射型光掩模坯料包括：衬底,反射曝光光的多层反射膜(所述曝光光是极紫外范围内的光)，保护膜，吸收曝光光的吸光膜，以及硬掩模膜，其与所述吸光膜接触地形成。所述硬掩模膜由多层构成，该多层包括第一层和第二层，所述第一层设置在离衬底最远的一侧，且由耐受氯基干刻蚀且可通过氟基干刻蚀去除的材料组成，并且第二层由耐受氟基干刻蚀且可通过氯基干刻蚀去除的材料组成。在一种条件下在氟基干刻蚀时吸光膜的刻蚀完成时间长于在相同条件下在氟基干刻蚀时硬掩模膜的第一层的刻蚀完成时间。
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公开(公告)号：CN116909085A
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202310388811.2
申请日：2023-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及一种反射型光掩模坯料，制造反射型光掩模的方法和反射型光掩模。所述反射型光掩模坯料包括：衬底，在衬底上形成且反射曝光光(即极紫外范围内的光)的多层反射膜，在多层反射膜上形成的保护多层反射膜的保护膜，在保护膜上形成并吸收曝光光的吸光膜，以及硬掩模膜，其形成于所述吸光膜上并与所述吸光膜接触，且在通过干刻蚀图案化所述吸光膜中充当硬掩模膜。所述硬掩模膜由多层构成，该多层包括第一层和第二层，所述第一层设置在离衬底最远的一侧，并由含硅且不含铬的材料组成，且第二层由含铬且不含硅的材料组成。
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