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公开(公告)号：CN107037688A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201610916600.1
申请日：2016-10-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/82
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68778 , G03F1/82
Abstract: 本发明的课题在于，提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置以及基板清洗方法，所述基板清洗装置在进行清洗处理时，可以防止异物附着在基板上。为了解决上述课题，本发明提供一种光掩模相关基板所使用的基板清洗装置，具备：保持构件，其只保持基板的端面；旋转机构，其使该保持构件旋转；以及，喷嘴，其向所述基板的至少表面侧供给液体，所述基板通过该旋转机构而与所述保持构件一起旋转；所述基板清洗装置的特征在于，至少一个所述保持构件的表面具有导电性，该具有导电性的保持构件接地。
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公开(公告)号：CN101716581A
公开(公告)日：2010-06-02
申请号：CN200910179006.9
申请日：2009-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 沼波恒夫
CPC classification number: G03F1/82 , Y10S134/902
Abstract: 本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法，当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时，对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法，该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板，当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液，并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时，至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前，先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出，之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率，进而能极度地减少微小异物的发生量。
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公开(公告)号：CN102360158A
公开(公告)日：2012-02-22
申请号：CN201110303742.8
申请日：2009-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 沼波恒夫
CPC classification number: G03F1/82 , Y10S134/902
Abstract: 本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法，当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时，对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法，该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板，当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时，至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前，先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出，之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率，进而能极度地减少微小异物的发生量。
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公开(公告)号：CN102360158B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201110303742.8
申请日：2009-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 沼波恒夫
CPC classification number: G03F1/82 , Y10S134/902
Abstract: 本发明涉及一种掩模相关基板的洗净方法，当根据纯水来洗净从被硫酸离子污染后的掩模用基板、空白掩模、掩模及这些物品的制造中间体中选择出来的掩模相关基板时，对在该洗净中所使用的纯水预先将溶解气体脱气。本发明还涉及一种洗净液供给装置和一种洗净方法，该方法是将洗净液供给至洗净装置中来洗净被洗净基板，当利用用以除去异物的过滤器来过滤洗净液并将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中来洗净被洗净基板时，至少在将过滤后的洗净液往洗净装置供给之前，先使过滤后的洗净液通过排出管往系统外部排出，之后才将过滤后的洗净液通过供给管供给至洗净装置中。本发明能简便地提高硫酸离子的洗净效率，进而能极度地减少微小异物的发生量。
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