公开(公告)号：CN1572902B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200410055074.1

申请日：2004-06-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 本间孝之 ,  津寺贵信 ,  西脇宽实 ,  田中秀二

IPC: C07F5/00

CPC classification number: C07F5/00

Abstract: 在其沸点比三烷基镓的沸点至少高10℃的溶剂如均三甲苯或邻二氯苯中，通过卤化镓或烷基镓和三烷基铝反应制备三烷基镓。以高产率得到高纯度的烷基镓。

公开(公告)号：CN1749260A

公开(公告)日：2006-03-22

申请号：CN200510113285.0

申请日：2005-06-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 津寺贵信 ,  田中秀二 ,  岩井大祐 ,  西脇宽实 ,  本间孝之

IPC: C07F5/06

CPC classification number: C07F5/062

Abstract: 本发明涉及一种含有以下杂质含量的高纯三甲基铝：有机硅组分≤0.5ppm，氯组分≤20ppm，烃类组分≤1,000ppm，Ca≤0.05ppm，Fe≤0.05ppm，Mg≤0.05ppm，Na≤0.05ppm，Si(非有机硅组分的硅组分)≤0.07ppm，Zn≤0.05ppm，和S≤0.05ppm。通过蒸馏和蒸发从粗三甲基铝中除去杂质制得高纯三甲基铝。

公开(公告)号：CN1769289A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510113286.5

申请日：2005-06-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 津寺贵信 ,  岩井大祐 ,  本间孝之 ,  西脇宽实 ,  田中秀二

IPC: C07F5/06

CPC classification number: C07F5/062

Abstract: 有机金属化合物精制方法及由此制得的有机金属化合物；本发明涉及一种有机金属化合物精制方法，该方法包括蒸馏要精制有机金属化合物，同时使惰性气体吹过有机金属化合物蒸气，从而从有机金属化合物中除去比有机金属化合物蒸气压高的杂质。

公开(公告)号：CN1572902A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410055074.1

申请日：2004-06-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 本间孝之 ,  津寺贵信 ,  西脇宽实 ,  田中秀二

IPC: C23C16/18

CPC classification number: C07F5/00

Abstract: 在其沸点比三烷基镓的沸点至少高10℃的溶剂如均三甲苯或邻二氯苯中，通过卤化镓或烷基镓和三烷基铝反应制备三烷基镓。以高产率得到高纯度的烷基镓。

公开(公告)号：CN1749260B

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200510113285.0

申请日：2005-06-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 津寺贵信 ,  田中秀二 ,  岩井大祐 ,  西脇宽实 ,  本间孝之

IPC: C07F5/06

CPC classification number: C07F5/062

Abstract: 本发明涉及一种含有以下杂质含量的高纯三甲基铝：有机硅组分≤0.5ppm，氯组分≤20ppm，烃类组分≤1,000ppm，Ca≤0.05ppm，Fe≤0.05ppm，Mg≤0.05ppm，Na≤0.05ppm，Si(非有机硅组分的硅组分)≤0.07ppm，Zn≤0.05ppm，和S≤0.05ppm。通过蒸馏和蒸发从粗三甲基铝中除去杂质高纯三甲基铝。

公开(公告)号：CN1769289B

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200510113286.5

申请日：2005-06-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 津寺贵信 ,  岩井大祐 ,  本间孝之 ,  西脇宽实 ,  田中秀二

IPC: C07F5/06

CPC classification number: C07F5/062

Abstract: 本发明涉及一种有机金属化合物精制方法，该方法包括蒸馏要精制有机金属化合物，同时使惰性气体吹过有机金属化合物蒸气，从而从有机金属化合物中除去比有机金属化合物蒸气压高的杂质。