公开(公告)号：CN108140749B

公开(公告)日：2022-01-04

申请号：CN201680058444.8

申请日：2016-10-13

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 村木拓也 ,  中西俊介

IPC: H01M50/126 ,  H01M50/145 ,  H01M50/131 ,  H01M50/183 ,  B32B15/08 ,  H01G11/78

Abstract: 蓄电装置用封装材料(10)具备依次层叠被覆层(21)、阻隔层(22)、密封剂粘接层(16)以及密封剂层(17)而成的结构，其中，阻隔层(22)具有铝箔层(14)、以及设置于铝箔层(14)的密封剂层(17)侧并面对密封剂粘接层(16)的防腐蚀处理层(15b)。铝箔层(14)在密封剂层(17)侧的面在MD方向上的60°光泽度以及在TD方向上的60°光泽度均为690以下，并且铝箔层(14)在密封剂层(17)侧的面在MD方向上的60°光泽度与在TD方向上的60°光泽度之差为100以下。

公开(公告)号：CN102112244A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN200980130832.2

申请日：2009-07-31

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 濑川达弥 ,  浅井究 ,  中西俊介 ,  茅根博之 ,  铃木充

IPC: B09B3/00 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B09B5/00 ,  B32B43/006 ,  B32B2311/00 ,  B32B2315/08 ,  B32B2398/00 ,  G02B5/201

Abstract: 玻璃基板再生装置(10)是对以大致水平支撑的状态由搬运装置搬运的基板进行再生处理的装置，朝向不良基板的搬运方向依次具备第1碱性液处理部(12)、酸性液处理部(14)以及第2碱性液处理部(16)。第1碱性液处理部(12)向从基板搬入部(11)所搬入的不良基板喷射碱性液，剥离最上层的树脂层。酸性液处理部(14)向由喷淋水洗部(13)淋洗完的不良基板喷射酸性液，剥离中间层的金属层。第2碱性液处理部(16)向由喷淋水洗部(15)淋洗完的不良基板喷射碱性液，剥离最下层的树脂层。根据玻璃基板再生装置(10)，可在短时间内完成玻璃基板(2)的再生处理，亦可抑制玻璃基板(2)的损伤。

公开(公告)号：CN108140749A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680058444.8

申请日：2016-10-13

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 村木拓也 ,  中西俊介

IPC: H01M2/02 ,  B32B15/08 ,  H01G11/78

CPC classification number: H01M2/024 ,  B32B1/02 ,  B32B3/04 ,  B32B7/12 ,  B32B15/08 ,  B32B15/085 ,  B32B15/095 ,  B32B15/20 ,  B32B27/08 ,  B32B27/16 ,  B32B27/18 ,  B32B27/26 ,  B32B27/322 ,  B32B27/34 ,  B32B27/40 ,  B32B2250/05 ,  B32B2250/40 ,  B32B2255/06 ,  B32B2255/20 ,  B32B2255/26 ,  B32B2264/0221 ,  B32B2270/00 ,  B32B2307/306 ,  B32B2307/31 ,  B32B2307/406 ,  B32B2307/518 ,  B32B2307/538 ,  B32B2307/714 ,  B32B2307/718 ,  B32B2307/7265 ,  B32B2307/732 ,  B32B2439/40 ,  B32B2457/00 ,  H01G11/78 ,  H01G11/80 ,  H01M2/02 ,  H01M2/0262 ,  H01M2/0287 ,  H01M2/08 ,  H01M2220/20

Abstract: 蓄电装置用封装材料(10)具备依次层叠被覆层(21)、阻隔层(22)、密封剂粘接层(16)以及密封剂层(17)而成的结构，其中，阻隔层(22)具有铝箔层(14)、以及设置于铝箔层(14)的密封剂层(17)侧并面对密封剂粘接层(16)的防腐蚀处理层(15b)。铝箔层(14)在密封剂层(17)侧的面在MD方向上的60°光泽度以及在TD方向上的60°光泽度均为690以下，并且铝箔层(14)在密封剂层(17)侧的面在MD方向上的60°光泽度与在TD方向上的60°光泽度之差为100以下。

公开(公告)号：CN102112244B

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN200980130832.2

申请日：2009-07-31

Applicant: 凸版印刷株式会社

Inventor： 濑川达弥 ,  浅井究 ,  中西俊介 ,  茅根博之 ,  铃木充

IPC: B09B3/00 ,  G02B5/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: B09B5/00 ,  B32B43/006 ,  B32B2311/00 ,  B32B2315/08 ,  B32B2398/00 ,  G02B5/201

Abstract: 玻璃基板再生装置(10)是对以大致水平支撑的状态由搬运装置搬运的基板进行再生处理的装置，朝向不良基板的搬运方向依次具备第1碱性液处理部(12)、酸性液处理部(14)以及第2碱性液处理部(16)。第1碱性液处理部(12)向从基板搬入部(11)所搬入的不良基板喷射碱性液，剥离最上层的树脂层。酸性液处理部(14)向由喷淋水洗部(13)淋洗完的不良基板喷射酸性液，剥离中间层的金属层。第2碱性液处理部(16)向由喷淋水洗部(15)淋洗完的不良基板喷射碱性液，剥离最下层的树脂层。根据玻璃基板再生装置(10)，可在短时间内完成玻璃基板(2)的再生处理，亦可抑制玻璃基板(2)的损伤。