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公开(公告)号：CN106661727A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580041720.5
申请日：2015-07-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明的层叠体具有：基材(11)，所述基材(11)由高分子材料构成；底涂层(12)，所述底涂层(12)配置在所述基材(11)的外表面(11a)的至少一部分上并且由包含具有官能团的无机物质的无机材料构成；原子层沉积膜(13)，所述原子层沉积膜(13)以覆盖所述底涂层(12)的外表面(12a)的方式进行配置，并包含成为成膜原料的前驱体，其中，位于所述底涂层(12)的外表面(12a)的所述前驱体与所述官能团相结合。
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公开(公告)号：CN108472927A
公开(公告)日：2018-08-31
申请号：CN201680076055.8
申请日：2016-12-27
Applicant: 凸版印刷株式会社
CPC classification number: H01L51/5253 , B32B9/00 , C23C14/08 , C23C16/0272 , C23C16/30 , C23C16/403 , C23C16/455 , C23C16/45525 , C23C16/56 , H01L51/50 , H01L51/56 , H01L2251/301 , H01L2251/558 , H05B33/02 , H05B33/04
Abstract: 一种层叠体，具备：基材，其具有第一面，并且由高分子材料形成；底覆层，其配置于所述基材的所述第一面上的至少一部分上，并且包含第一无机物质，该第一无机物质具有能够与作为原子层沉积膜成膜原料的前体结合的吸附部位；功能层，其为由所述前体形成的所述原子层沉积膜，所述功能层被配置为覆盖所述底覆层的外表面，并且包含与所述底覆层的所述吸附部位结合的第二无机物质；以及外覆层，其被配置为覆盖所述功能层的外表面，并且包含第三无机物质。
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公开(公告)号：CN105050808A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480018402.2
申请日：2014-03-20
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: B32B9/00 , C23C16/40 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45525 , B32B27/06 , B32B27/308 , B32B2307/7244 , B32B2457/20 , C23C16/0272 , C23C16/04 , C23C16/401 , C23C16/403 , C23C16/405
Abstract: 层积体(1)包括：具有表面的基材(4)，在所述基材(4)的所述表面上的至少一部分上形成的、含有具有OH基的有机高分子的膜状或薄膜状的底涂层(3)，以及将前体作为原料形成的、以覆盖所述底涂层(3)的暴露面的方式形成为膜状的原子层沉积膜(2)，其中所述前体的至少一部分键合于所述有机高分子的所述OH基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106661727B
公开(公告)日：2020-05-05
申请号：CN201580041720.5
申请日：2015-07-29
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明的层叠体具有：基材(11)，所述基材(11)由高分子材料构成；底涂层(12)，所述底涂层(12)配置在所述基材(11)的外表面(11a)的至少一部分上并且由包含具有官能团的无机物质的无机材料构成；原子层沉积膜(13)，所述原子层沉积膜(13)以覆盖所述底涂层(12)的外表面(12a)的方式进行配置，并包含成为成膜原料的前驱体，其中，位于所述底涂层(12)的外表面(12a)的所述前驱体与所述官能团相结合。
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公开(公告)号：CN105050808B
公开(公告)日：2018-12-28
申请号：CN201480018402.2
申请日：2014-03-20
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: B32B9/00 , C23C16/40 , C23C16/455
Abstract: 层积体(1)包括：具有表面的基材(4)，在所述基材(4)的所述表面上的至少一部分上形成的、含有具有OH基的有机高分子的膜状或薄膜状的底涂层(3)，以及将前体作为原料形成的、以覆盖所述底涂层(3)的暴露面的方式形成为膜状的原子层沉积膜(2)，其中所述前体的至少一部分键合于所述有机高分子的所述OH基。
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公开(公告)号：CN107405872B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201680014989.9
申请日：2016-03-16
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使采用由高分子构成的基材也可提高原子层沉积膜的阻隔性的层叠体及其制造方法、以及阻气膜及其制造方法。该层叠体具有：由高分子材料构成的基材(11)、配置于基材(11)的表面(11a)的至少一部分上且由含有Ta元素的无机材料构成的底涂层(12)、以及以覆盖底涂层(12)的表面(12a)的方式配置的原子层沉积膜(13)。
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公开(公告)号：CN107405872A
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201680014989.9
申请日：2016-03-16
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使采用由高分子构成的基材也可提高原子层沉积膜的阻隔性的层叠体及其制造方法、以及阻气膜及其制造方法。该层叠体具有：由高分子材料构成的基材(11)、配置于基材(11)的表面(11a)的至少一部分上且由含有Ta元素的无机材料构成的底涂层(12)、以及以覆盖底涂层(12)的表面(12a)的方式配置的原子层沉积膜(13)。
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