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公开(公告)号:CN116625347A
公开(公告)日:2023-08-22
申请号:CN202310593744.8
申请日:2023-05-23
Applicant: 北京京东方传感技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G01C19/60 , G01R33/032 , G04F5/14
Abstract: 本发明提供了一种原子气室及其制作方法,属于原子气室的制造技术领域。原子气室,包括依次层叠的第一硅基板、玻璃基板、第二硅基板;所述第一硅基板朝向所述第二硅基板的第一表面设置有多个间隔设置的第一凹槽;所述玻璃基板包括多个间隔设置的通孔,所述通孔与所述第一凹槽一一对应,所述通孔在所述第一硅基板上的正投影落入对应的第一凹槽内;所述第二硅基板朝向所述第一硅基板的第二表面设置有多个间隔设置的第二凹槽,所述通孔与所述第二凹槽一一对应,所述通孔在所述第二硅基板上的正投影落入对应的第二凹槽内;每一所述通孔与对应的所述第一凹槽和所述第二凹槽组成一腔室。本发明的技术方案能够简化原子气室的制备工艺。