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公开(公告)号：CN111508872B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202010321694.4
申请日：2020-04-22
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种光照射装置及半导体加工设备。该光照射装置设置于半导体加工设备的工艺腔体内的顶部，用于对工艺腔体内的工件进行光照处理，其包括：反射器及光源模组；反射器固定于工艺腔体上，反射器内形成有反射腔，反射腔用于对光线进行反射并调节光线状态；反射器的顶部开设有与反射腔连通的光入射口；反射器的底部设有多个与反射腔连通的光出射孔，多个光出射孔的排布形状与其辐照区域的形状对应设置；光源模组固定设置于反射器的上方，并且光源模组的光出射面与光入射口对应设置。本申请实施例无需采用旋转机构调节光线分布方式，因此有效降低光照射装置设计与加工制造难度，减少设备报错与故障，从而大幅降低应用及维护成本。
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公开(公告)号：CN114242619A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111524293.X
申请日：2021-12-14
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种半导体工艺设备及其控制方法。涉及半导体制造技术领域。本发明所述的半导体工艺设备包括至少一个灯箱、工艺气体循环管道和与灯箱一一对应的至少一个风压检测组件。其中，灯箱具有灯腔以及与灯腔连通的进风口和出风口，工艺气体循环管道的第一端与进风口连通，工艺气体循环管道的第二端与出风口连通，且工艺气体循环管道设置有第一检测口。风压检测组件包括高压检测口和低压检测口，高压检测口与对应的灯腔内部连通，低压检测口与第一检测口连通。该方案能解决半导体工艺设备内风压检测精度低的问题。
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公开(公告)号：CN114156207A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202111414144.8
申请日：2021-11-25
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 顾文亮
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请公开了一种紫外固化系统及其控制方法，紫外固化系统包括驱动机构、第一光源、第二光源、位置检测组件和控制装置；其中，驱动机构用于驱动第一光源和第二光源以至少一个单次旋转周期旋转；位置检测组件用于在第一光源和第二光源的一个单次旋转周期内获取至少两组对应不同位置的检测信号，并将检测信号传递给控制装置；控制装置用于根据检测信号获取驱动机构驱动第一光源和第二光源在一个单次旋转周期内旋转到对应位置的实际旋转参数，并在理论旋转参数与实际旋转参数满足校正条件时，根据实际旋转参数校正驱动机构在下一个单次旋转周期内的理论旋转参数。该方案能够解决晶圆的加工质量较差的问题。
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公开(公告)号：CN112017934A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN201910470037.3
申请日：2019-05-29
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种压力控制方法及系统，用于对传输平台中的腔室进行压力控制，该方法包括以下步骤：S1：对所述腔室进行本底抽气，直至所述腔室的压力达到预设本底压力值；S2：向所述腔室充气，在第一设定时间后停止充气；S3：以预定抽气速度对所述腔室进行抽气，直至所述腔室中的压力达到目标压力值为止。通过本发明，降低了传输平台的压力控制成本。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112017934B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN201910470037.3
申请日：2019-05-29
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种压力控制方法及系统，用于对传输平台中的腔室进行压力控制，该方法包括以下步骤：S1：对所述腔室进行本底抽气，直至所述腔室的压力达到预设本底压力值；S2：向所述腔室充气，在第一设定时间后停止充气；S3：以预定抽气速度对所述腔室进行抽气，直至所述腔室中的压力达到目标压力值为止。通过本发明，降低了传输平台的压力控制成本。
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公开(公告)号：CN117936401A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202211265596.9
申请日：2022-10-17
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 顾文亮
Abstract: 本发明提供一种紫外固化监控方法和装置、紫外固化设备，该方法包括：在工艺腔室执行紫外固化工艺时，获取工艺腔室内的紫外线辐射信息；根据紫外线辐射信息，判断是否对工艺腔室进行清洁工艺；如果对工艺腔室进行清洁工艺，则获取记录的第一次数，在第一次数等于第一预设数值，且紫外固化工艺采用的紫外光源输出功率值大于预设功率阈值时，禁止执行紫外固化工艺，直至更换紫外照射部件；在第一次数不等于第一预设数值，且小于第二预设数值，并且紫外固化工艺采用的紫外光源输出功率值小于等于预设功率阈值时，提高紫外光源的输出功率。本发明提供的紫外固化监控方法和装置、紫外固化设备，可以提高晶圆间的工艺一致性。
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公开(公告)号：CN113097108A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110348035.4
申请日：2021-03-31
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 顾文亮
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种半导体工艺的控制方法，应用于半导体工艺设备的进气组件，该控制方法包括：接收进气工艺配方，进气工艺配方包括半导体工艺步骤对应的至少一个进气控制量对应的预设工艺参数变化量，进气控制量包括向工艺腔室提供工艺气体的流量和工艺腔室内的气体压强中的至少一者；在执行半导体工艺步骤时，按预设函数控制对应的进气控制量随预设工艺参数的变化而逐渐增加，直至预设工艺参数达到进气控制量对应的预设工艺参数变化量。本发明提供的控制方法能够实现缓释进气，提高了工艺腔室内气流场的稳定性，避免了晶片位置出现偏移，并且能够缩小膜层间的应力差距，提高薄膜质量。本发明还提供一种半导体工艺设备。
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公开(公告)号：CN111508872A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010321694.4
申请日：2020-04-22
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本申请实施例提供了一种光照射装置及半导体加工设备。该光照射装置设置于半导体加工设备的工艺腔体内的顶部，用于对工艺腔体内的工件进行光照处理，其包括：反射器及光源模组；反射器固定于工艺腔体上，反射器内形成有反射腔，反射腔用于对光线进行反射并调节光线状态；反射器的顶部开设有与反射腔连通的光入射口；反射器的底部设有多个与反射腔连通的光出射孔，多个光出射孔的排布形状与其辐照区域的形状对应设置；光源模组固定设置于反射器的上方，并且光源模组的光出射面与光入射口对应设置。本申请实施例无需采用旋转机构调节光线分布方式，因此有效降低光照射装置设计与加工制造难度，减少设备报错与故障，从而大幅降低应用及维护成本。
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公开(公告)号：CN218000300U
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202222324554.X
申请日：2022-08-31
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种灯箱驱动组件，包括安装座、驱动装置、主动轮、第一惰轮轴、第一惰轮、第二惰轮轴、第二惰轮、传动带、惰轮固定件和至少一个从动轮，第一惰轮设置在第一惰轮轴上，第二惰轮设置在第二惰轮轴上，第一惰轮轴和第二惰轮轴的顶端均与安装座连接，传动带套设在主动轮及从动轮上，驱动装置用于驱动主动轮旋转；惰轮固定件套设在第一惰轮轴的底端、第二惰轮轴的底端以及安装座上。在本实用新型中，惰轮受到的载荷可由惰轮轴两端连接的安装座和惰轮固定件分担，使惰轮结构能够有效抵抗灯箱改变旋转方向时对惰轮结构的冲击，提高了灯箱驱动组件长期运转的稳定性。
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