公开(公告)号：CN112835263A

公开(公告)日：2021-05-25

申请号：CN201911164182.5

申请日：2019-11-22

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 胡摇 ,  王臻 ,  张万隆 ,  王劭溥 ,  郝群

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种液晶计算全息图的单步曝光方法及装置，可以克服目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的缺陷，无需提前制作带有同样计算全息图图案的掩膜版，仅需一次曝光，不需中途调整线偏振器或待曝光基板的摆放角度，简化制作流程，缩短制作时间，降低制作成本，简化掩膜版处的固定装置，无需真空吸附装置缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，避免对基板表面光敏材料的大面积破坏。方法包括：构建液晶计算全息图曝光装置；放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整，所述参数包括空间位置、俯仰角度，平面镜与待曝光基板正交接触放置，构成洛埃镜结构，调整空间光调制器的输入电信号，入射至基板的一半光束对应的区域不加载输入电信号；进行曝光。

公开(公告)号：CN110850685B

公开(公告)日：2020-11-13

申请号：CN201911159778.6

申请日：2019-11-22

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 胡摇 ,  王臻 ,  王劭溥 ,  张万隆 ,  郝群

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种液晶计算全息图的曝光方法及装置，其能够避免目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的问题，简化制作流程，降低制作成本，缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，减少对基板表面光敏材料的破坏。方法包括：(1)构建液晶计算全息图曝光装置，不加入平面镜与空间光调制器；(2)放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整；(3)进行第一次曝光；(4)在曝光装置中加入平面镜与空间光调制器，并对两者及待曝光基板进行参数调整，调整空间光调制器的输入参数，使其能够将入射的平面光波调制为预期波前的光波；(5)进行第二次曝光。

公开(公告)号：CN110850685A

公开(公告)日：2020-02-28

申请号：CN201911159778.6

申请日：2019-11-22

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 胡摇 ,  王臻 ,  王劭溥 ,  张万隆 ,  郝群

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种液晶计算全息图的曝光方法及装置，其能够避免目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的问题，简化制作流程，降低制作成本，缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，减少对基板表面光敏材料的破坏。方法包括：(1)构建液晶计算全息图曝光装置，不加入平面镜与空间光调制器；(2)放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整；(3)进行第一次曝光；(4)在曝光装置中加入平面镜与空间光调制器，并对两者及待曝光基板进行参数调整，调整空间光调制器的输入参数，使其能够将入射的平面光波调制为预期波前的光波；(5)进行第二次曝光。

公开(公告)号：CN112835263B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN201911164182.5

申请日：2019-11-22

Applicant: 北京理工大学

Inventor： 胡摇 ,  王臻 ,  张万隆 ,  王劭溥 ,  郝群

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种液晶计算全息图的单步曝光方法及装置，可以克服目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的缺陷，无需提前制作带有同样计算全息图图案的掩膜版，仅需一次曝光，不需中途调整线偏振器或待曝光基板的摆放角度，简化制作流程，缩短制作时间，降低制作成本，简化掩膜版处的固定装置，无需真空吸附装置缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，避免对基板表面光敏材料的大面积破坏。方法包括：构建液晶计算全息图曝光装置；放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整，所述参数包括空间位置、俯仰角度，平面镜与待曝光基板正交接触放置，构成洛埃镜结构，调整空间光调制器的输入电信号，入射至基板的一半光束对应的区域不加载输入电信号；进行曝光。