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公开(公告)号：CN111811429B
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202010675574.4
申请日：2020-07-14
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种子孔径拼接干涉测量方法和装置，方法包括：(1)构建子孔径拼接干涉测量装置，使干涉仪与被测镜对心放置，干涉仪的出射光照射在被测镜中心子孔径区域，干涉仪采集的条纹图像满足干涉测量的要求；(2)使用干涉仪对被测镜中心子孔径区域面形进行检测并保存检测结果；(3)加入偏振光栅和λ/4波片，根据实际测量需求调整空间位置、偏转角度及俯仰角度；(4)旋转偏振光栅，使测量光依次照射被测镜除中心子孔径外其余各子孔径区域，完成对被测镜各子孔径区域的面形检测并保存结果；(5)如未覆盖被测镜全口径，换用空间周期更小的偏振光栅重复步骤(3)及(4)，以测量被测镜更外圈子孔径区域；(6)对多次检测结果拼接，得到被测镜的全口径面形。
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公开(公告)号：CN118940424A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410817245.7
申请日：2024-06-24
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 配合子孔径拼接术使用的通用部分补偿器设计方法及装置，结构简单、通用性强，显著提高子孔径拼接术检测大口径非球面的效率，降低子孔径拼接术检测大口径非球面所需的硬件要求和成本。方法包括：(1)获取非球面测量光路各系统参数；(2)设置部分补偿器初始结构参数，部分补偿器由一个双胶合透镜构成；(3)将非球面中心子孔径作为被测镜对部分补偿器的结构优化，得到部分补偿器L0；(4)分别将非球面中心孔径外的n圈子孔径作为被测镜对L0优化，相应得到部分补偿器；(5)对部分补偿器补偿效果评价，选取效果最佳的部分补偿器Lb；(6)将Lb作为初始结构，针对被测非球面全口径对Lb进行优化，得到最终的部分补偿器Le。
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公开(公告)号：CN112835263A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201911164182.5
申请日：2019-11-22
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种液晶计算全息图的单步曝光方法及装置，可以克服目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的缺陷，无需提前制作带有同样计算全息图图案的掩膜版，仅需一次曝光，不需中途调整线偏振器或待曝光基板的摆放角度，简化制作流程，缩短制作时间，降低制作成本，简化掩膜版处的固定装置，无需真空吸附装置缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，避免对基板表面光敏材料的大面积破坏。方法包括：构建液晶计算全息图曝光装置；放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整，所述参数包括空间位置、俯仰角度，平面镜与待曝光基板正交接触放置，构成洛埃镜结构，调整空间光调制器的输入电信号，入射至基板的一半光束对应的区域不加载输入电信号；进行曝光。
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公开(公告)号：CN111238397B
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN202010091711.X
申请日：2020-02-10
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 光学元件面形的瞬态数字莫尔移相干涉测量装置及方法，其解决了使用两步载波拼接法时需要牺牲瞬时抗振性换取测量范围的缺陷，扩展了传统的数字莫尔移相方法的测量范围，同时也保留了数字莫尔移相方法的瞬时抗振特性。装置包括：光源(1)、分光镜(2)、参考镜(3)、第一偏振光栅(4)、被测镜(5)、第二偏振光栅(6)、第一成像物镜(7)、第一相机(8)、第二成像物镜(9)和第二相机(10)；通过偏振光栅的分光性能加载不同载波，使用偏振光栅将两束干涉光分离，同时获取两幅实际干涉图。
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公开(公告)号：CN110850685B
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201911159778.6
申请日：2019-11-22
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种液晶计算全息图的曝光方法及装置，其能够避免目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的问题，简化制作流程，降低制作成本，缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，减少对基板表面光敏材料的破坏。方法包括：(1)构建液晶计算全息图曝光装置，不加入平面镜与空间光调制器；(2)放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整；(3)进行第一次曝光；(4)在曝光装置中加入平面镜与空间光调制器，并对两者及待曝光基板进行参数调整，调整空间光调制器的输入参数，使其能够将入射的平面光波调制为预期波前的光波；(5)进行第二次曝光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111238397A
公开(公告)日：2020-06-05
申请号：CN202010091711.X
申请日：2020-02-10
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 光学元件面形的瞬态数字莫尔移相干涉测量装置及方法，其解决了使用两步载波拼接法时需要牺牲瞬时抗振性换取测量范围的缺陷，扩展了传统的数字莫尔移相方法的测量范围，同时也保留了数字莫尔移相方法的瞬时抗振特性。装置包括：光源(1)、分光镜(2)、参考镜(3)、第一偏振光栅(4)、被测镜(5)、第二偏振光栅(6)、第一成像物镜(7)、第一相机(8)、第二成像物镜(9)和第二相机(10)；通过偏振光栅的分光性能加载不同载波，使用偏振光栅将两束干涉光分离，同时获取两幅实际干涉图。
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公开(公告)号：CN111811429A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010675574.4
申请日：2020-07-14
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种子孔径拼接干涉测量方法和装置，方法包括：(1)构建子孔径拼接干涉测量装置，使干涉仪与被测镜对心放置，干涉仪的出射光照射在被测镜中心子孔径区域，干涉仪采集的条纹图像满足干涉测量的要求；(2)使用干涉仪对被测镜中心子孔径区域面形进行检测并保存检测结果；(3)加入偏振光栅和λ/4波片，根据实际测量需求调整空间位置、偏转角度及俯仰角度；(4)旋转偏振光栅，使测量光依次照射被测镜除中心子孔径外其余各子孔径区域，完成对被测镜各子孔径区域的面形检测并保存结果；(5)如未覆盖被测镜全口径，换用空间周期更小的偏振光栅重复步骤(3)及(4)，以测量被测镜更外圈子孔径区域；(6)对多次检测结果拼接，得到被测镜的全口径面形。
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公开(公告)号：CN116295101A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310213414.1
申请日：2023-03-08
Applicant: 北京理工大学 , 中国人民解放军国防科技大学
Abstract: 分析单帧干涉图的面形测量和缺陷定位一体化方法及系统，能够仅使用面形测量干涉仪即可同时完成面形测量和缺陷全场定位，缩短了检测流程，加快了检测速度，可以实现对超精密光学元件的形性一体化检测。包括：利用面形测量干涉仪采集得到单帧干涉图；解得干涉图携带的相位信息；获取干涉图携带的相位信息的各项泽尼克系数；利用光学设计软件的优化功能进行优化，直至虚拟干涉仪获取的系统波像差与实际测量获取的干涉图携带的相位信息一致；提取被测面的各项泽尼克系数，重构被测面形；去掉低频项；重构相位信息中的同心环状特征，得到特征识别框的中心像素坐标；得到缺陷在被测面表面的三维坐标。
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公开(公告)号：CN111238396B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202010085157.4
申请日：2020-02-10
Applicant: 北京理工大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种瞬态数字莫尔移相干涉测量装置及方法，其解决了使用两步载波拼接法时需要牺牲瞬时抗振性换取测量范围的缺陷，扩展了传统的数字莫尔移相方法的测量范围，同时也保留了数字莫尔移相方法的瞬时抗振特性。装置包括：光源(1)、第一分光镜(2)、参考镜(3)、偏振光栅(4)、被测镜(5)、λ/4波片(6)、第二分光镜(7)、第一线偏器(8)、第一成像物镜(9)、第一相机(10)、第二线偏器(11)、第二成像物镜(12)和第二相机(13)；通过偏振光栅的分光性能加载不同载波，使用偏振光栅将两束干涉光分离，同时获取两幅实际干涉图。
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公开(公告)号：CN110850685A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911159778.6
申请日：2019-11-22
Applicant: 北京理工大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种液晶计算全息图的曝光方法及装置，其能够避免目前制作液晶计算全息图采取的掩膜版曝光法的问题，简化制作流程，降低制作成本，缩减掩膜版与待曝光基板间的距离，减少对基板表面光敏材料的破坏。方法包括：(1)构建液晶计算全息图曝光装置，不加入平面镜与空间光调制器；(2)放入涂覆有光敏材料的待曝光基板并进行参数调整；(3)进行第一次曝光；(4)在曝光装置中加入平面镜与空间光调制器，并对两者及待曝光基板进行参数调整，调整空间光调制器的输入参数，使其能够将入射的平面光波调制为预期波前的光波；(5)进行第二次曝光。
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