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公开(公告)号：CN119810252A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411998320.0
申请日：2024-12-31
Applicant: 北京神目科技有限公司 , 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本公开提供了一种指定站姿提示图生成方法、系统及毫米波自助扫描安检方法和系统，所述方法包括：通过摄像装置获得受检人的站姿图；通过受检人的所述站姿图，获得受检人的体型站姿图；基于标准站姿图，调整所述受检人的体型站姿图，并获得所述受检人的站姿提示图，并将所述站姿提示图作为该受检人的指定站姿提示图；基于通过摄像装置获得受检人的站姿图和体态特征，获得受检人的当前站姿图；以及将受检人的指定站姿提示图和所述当前站姿图同时显示给受检人，其中，所述指定站姿提示图能够根据不同受检人的体态特征而不同。
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公开(公告)号：CN116433498A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202111680455.9
申请日：2021-12-30
Applicant: 北京神目科技有限公司 , 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G06T5/00 , G06T5/50 , G06N3/0464 , G06N3/08
Abstract: 提供了一种图像去噪模型的训练方法和装置、图像去噪方法和装置。训练方法包括：获取训练样本集，包括第一训练样本和第二训练样本，第一训练样本包括原始图像数据样本和噪声数据样本，第二训练样本包括干净图像数据样本；将原始图像数据样本输入第一卷积神经网络；第一卷积神经网络处理原始图像数据样本，得到图像特征数据；将噪声数据样本输入第二卷积神经网络；第二卷积神经网络处理噪声数据样本，得到噪声特征数据；对图像特征数据和噪声特征数据进行融合，得到融合特征数据；对融合特征数据进行卷积操作，得到用于表征待识别对象的图像特征的增强特征数据；根据干净图像数据样本与增强特征数据之间的差异，调整图像去噪模型的各个参数。
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公开(公告)号：CN113673548A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202010413169.5
申请日：2020-05-15
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本申请提供了一种融合了可见光图像、深度图像和太赫兹图像的安检系统和方法，用于提升安检过程的准确率，优化安检图像(太赫兹图像)的质量。该安检系统包括：多个传感器模块，被配置为采集包含一个或多个目标对象在内的场景的可见光图像、深度图像以及太赫兹图像；图像同步模块，被配置为对采集的可见光图像、深度图像和太赫兹图像进行同步；图像配准模块，被配置为对同步后的可见光图像、深度图像和太赫兹图像进行配准；图像融合模块，被配置为对配准后的可见光图像、深度图像和/或太赫兹图像进行融合；以及识别模块，被配置为基于融合后的图像来识别所述目标对象携带的目标物品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114612351A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202011432910.9
申请日：2020-12-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明涉及图像融合方法和装置、系统。图像融合方法包括：从所述掩膜提取用图像中提取检测对象的掩膜图像；以及将所述掩膜图像融合到所述太赫兹图像，形成太赫兹融合图像。本发明通过将从掩膜提取用图像中提取的掩膜图像融合到太赫兹图像上，提高成像质量和安检效果。
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公开(公告)号：CN118146076A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202410255914.6
申请日：2024-03-06
Abstract: 本发明提供一种高碳醛的连续流制备方法和系统。方法包括：将料液A由分离器经第一微混合器和第二微混合器输送至微反应器中；将料液B经第一微混合器和第二微混合器输送至微反应器中，将气体B经第二微混合器输送至微反应器中，料液B和气体B在第二微混合器内混合；在料液A的存在下，使料液B和气体B在微反应器中进行反应，得到反应产物；利用分离器对反应产物进行分离处理，得到高碳醛溶液和循环料液A；其中，料液A和循环料液A为催化剂溶液；料液B为碳原子数为5‑16的烯烃，气体B为一氧化碳与氢气的混合气。利用本发明实施C5～C16烯烃的氢甲酰化反应，大大减少了加料、反应时间，提高了从原料到高碳醛或者高碳醇的转化效率。
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公开(公告)号：CN118299269A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202410452251.7
申请日：2024-04-15
Applicant: 清华大学
IPC: H01L21/336 , H01L29/786 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及一种具有微纳尺寸级别图案的形成方法，所述图案经由溶液原料在基底表面形成，其中，所述基底表面经由表面处理而形成亲水区域或疏水区域，并且，在所述图案的形成过程中，在操作温度下，所述环境湿度被控制在45％RH以下。
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公开(公告)号：CN118600416A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410606052.7
申请日：2024-05-15
Applicant: 清华大学
IPC: C23C26/00
Abstract: 本发明提出一种硅烷分子自组装单层膜及多层金属氧化物薄膜结构的制备方法。本发明的硅烷分子自组装单层膜的制备方法包括以下步骤：对基底表面进行活化处理；在至少部分的活化处理区域通过硅烷分子进行自组装以形成硅烷分子自组装单层膜；其中，所述硅烷分子包括具有碳原子数4以上的疏水链段，并且，所述硅烷分子中不包含氯元素；所述基底表面包含金属氧化物薄膜层，并且所述硅烷分子自组装单层膜至少部分的形成于所述金属氧化物薄膜层表面。进一步地，在该硅烷分子自组装单层膜的制备方法的基础上提出了多层金属氧化物薄膜结构的制备方法。本发明提供的方法相较于传统使用的真空沉积工艺而言，操作性、便利性大幅提高且生产成本显著下降。
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公开(公告)号：CN117747435A
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202211123645.5
申请日：2022-09-15
Applicant: 清华大学
Abstract: 一种用于表面能定向组装加工技术的前驱体溶液、该前驱体溶液的制备方法、采用表面能定向组装加工技术的图形制备方法、以及采用表面能定向组装加工技术制备电子器件的方法。该前驱体溶液包括：醇类或者醇醚类有机溶剂、金属氧化物的前驱体盐以及稳定剂。
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