高B-S(成键)含量的纳米缺陷多孔碳材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115537850A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202211252024.7

    申请日:2022-10-13

    Abstract: 本发明公开了一种高B‑S(成键)含量的纳米缺陷多孔碳材料(BS‑C)及其制备方法与应用,材料中B元素含量可达到1.5at%‑6at%,S元素含量可达到0.5at%‑2at%,材料中分布有微孔、介孔和大孔,比表面积为700m2g‑1‑1300m2g‑1。使用木质素磺酸钠作为碳源,硼酸作为硼源,前处理后制备成前驱体,高温退火,制备出高B‑S含量的纳米缺陷多孔碳材料。高温退火过程可以使B与C、S之间形成特殊的化学键;硼酸在退火时不仅能作为硼源向碳材料提供成键的B原子,同时也促进材料的多孔结构和纳米缺陷结构的产生;该材料能够高效电催化两电子氧还原反应。

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