公开(公告)号：CN107407891A

公开(公告)日：2017-11-28

申请号：CN201680018673.7

申请日：2016-02-15

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司

Inventor： J.霍恩 ,  B.西格尔 ,  B.克瑙夫 ,  S.克朗 ,  J.施佩希特 ,  M.霍尔兹 ,  S.布莱迪斯特尔 ,  F.巴特 ,  M.索莱曼

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70075 ,  G03F7/70116 ,  H04B5/0081

Abstract: 本发明涉及一种光学系统的组合件，特别是微光刻投射曝光设备的组合件，所述组合件包括反射镜布置(110，210，310，410)，其包括多个可相互独立地调节的反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)，以及包含数据和电压生成单元(120，220，320，420)，其生成控制数据以及供应电压，以控制各反射镜元件的调节，其中组合件设计为将控制数据和/或供应电流从数据和电压生成单元(120，220，320，420)以电隔离的方式传输到反射镜元件(110a，110b，210a，210b，310a，310b，410a，410b)。