GaN基外延薄膜自分裂转移方法

    公开(公告)号:CN102522318A

    公开(公告)日:2012-06-27

    申请号:CN201110458460.5

    申请日:2011-12-30

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: GaN基外延薄膜自分裂转移方法,涉及用于光电器件中的GaN基薄膜。先在GaN基外延薄膜上蒸镀或溅射一层或多层金属,使之成为欧姆接触层,其中加入高反射率金属起到反射镜作用,再利用光刻方法在金属表面上制作出图形化光刻胶;在样品表面没有光刻胶的部分电镀金属衬底,并采用化学法去除光刻胶;把样品键合到支撑衬底上;采用激光光源透过蓝宝石衬底辐照样品,依据激光剥离技术去除蓝宝石衬底,有电镀金属区域的GaN基薄膜则转移到电镀的厚金属衬底,无电镀金属区域的GaN基薄膜发生分裂形成碎片,结果使GaN基外延薄膜实现自分裂和转移。不仅可降低成本、简化工艺,而且可避免金属基板切割和解决因切割金属衬底而造成器件短路问题。

    一种氮化物发光器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN101540364B

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200910111571.1

    申请日:2009-04-23

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种氮化物发光器件及其制备方法,涉及一种半导体发光器件。提供一种非对称耦合多量子阱结构为有源区的氮化物发光器件及其制备方法。至少包括n-型电子注入层、p-型空穴注入层和多量子阱有源层,多量子阱有源层夹在n-型电子注入层和p-型空穴注入层之间。有源层由非对称耦合量子阱结构组成。量子阱的垒层较薄,易实现载流子隧穿,且量子阱中基态能级间的跃迁能量逐渐变化,跃迁能量大的量子阱接近p型注入层,跃迁能量小的量子阱接近n型注入层。用此有源区结构可增强空穴在量子阱有源区中的隧穿输运,同时阻挡电子在量子阱有源区中的隧穿输运,改善氮化物发光器件有源区中载流子分布不均现象,减小电子泄露和能带填充效应,实现高效发光。

    大功率半导体微腔发光二极管

    公开(公告)号:CN101478025A

    公开(公告)日:2009-07-08

    申请号:CN200910110947.7

    申请日:2009-01-22

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 大功率半导体微腔发光二极管,涉及一种发光管。提供一种可提高发光功率的大功率半导体微腔发光二极管。从下至上设有底部分布布拉格反射镜和腔区。分布布拉格反射镜是由两种折射率不同的材料以层厚为四分之一中心波长交替生长形成的。在腔区上可设有顶部分布布拉格反射镜,或顶部金属反射镜。提出一种用较少周期数(两种折射率不同的半导体材料层厚各为四分之一中心波长叠加后厚度为二分之一中心波长定为一个周期)的DBR得到较高反射率的方法,两种折射率不同的半导体材料由于晶格失配和热膨胀系数失配导致构成的DBR表面出现裂痕影响随后腔区晶体质量的可能性减少。

    GaN基外延薄膜自分裂转移方法

    公开(公告)号:CN102522318B

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201110458460.5

    申请日:2011-12-30

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: GaN基外延薄膜自分裂转移方法,涉及用于光电器件中的GaN基薄膜。先在GaN基外延薄膜上蒸镀或溅射一层或多层金属,使之成为欧姆接触层,其中加入高反射率金属起到反射镜作用,再利用光刻方法在金属表面上制作出图形化光刻胶;在样品表面没有光刻胶的部分电镀金属衬底,并采用化学法去除光刻胶;把样品键合到支撑衬底上;采用激光光源透过蓝宝石衬底辐照样品,依据激光剥离技术去除蓝宝石衬底,有电镀金属区域的GaN基薄膜则转移到电镀的厚金属衬底,无电镀金属区域的GaN基薄膜发生分裂形成碎片,结果使GaN基外延薄膜实现自分裂和转移。不仅可降低成本、简化工艺,而且可避免金属基板切割和解决因切割金属衬底而造成器件短路问题。

    自分裂GaN基外延薄膜转移方法

    公开(公告)号:CN103094429A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201310057538.1

    申请日:2013-02-22

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 自分裂GaN基外延薄膜转移方法,涉及氮化镓基半导体器件。选择一外延结构,该外延结构包括蓝宝石衬底和GaN基薄膜外延层;在GaN基薄膜上形成图形化金属层;将样品键合到支撑基板上;采用紫外波段激光光源透过蓝宝石衬底辐照样品,实现自分裂GaN基外延薄膜的转移。在形成器件台面结构时,无需采用等离子体刻蚀工艺,从而避免了等离子体刻蚀对发光区的损伤,有利于制备出高效的器件,工艺得到了简化。同时可避免为了器件划片进行切割金属衬底时出现金属衬底卷边和喷溅而导致短路等不良问题。适用于在类蓝宝石的透明衬底上生长的GaN基器件的制备。

    一种氮化物发光器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN101540364A

    公开(公告)日:2009-09-23

    申请号:CN200910111571.1

    申请日:2009-04-23

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 一种氮化物发光器件及其制备方法,涉及一种半导体发光器件。提供一种非对称耦合多量子阱结构为有源区的氮化物发光器件及其制备方法。至少包括n-型电子注入层、p-型空穴注入层和多量子阱有源层,多量子阱有源层夹在n-型电子注入层和p-型空穴注入层之间。有源层由非对称耦合量子阱结构组成。量子阱的垒层较薄,易实现载流子隧穿,且量子阱中基态能级间的跃迁能量逐渐变化,跃迁能量大的量子阱接近p型注入层,跃迁能量小的量子阱接近n型注入层。用此有源区结构可增强空穴在量子阱有源区中的隧穿输运,同时阻挡电子在量子阱有源区中的隧穿输运,改善氮化物发光器件有源区中载流子分布不均现象,减小电子泄露和能带填充效应,实现高效发光。

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