一种具有AlGaN/InGaN超晶格势垒层的量子阱LED及其制备方法

    公开(公告)号:CN115995514A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202310194705.0

    申请日:2023-03-03

    Applicant: 吉林大学

    Abstract: 一种具有AlGaN/InGaN超晶格势垒层的量子阱LED及其制备方法,属于半导体发光器件技术领域。从下至上依次由衬底、成核层、n型GaN层、具有AlGaN/InGaN超晶格势垒层的多量子阱有源层、电子阻挡层和p型GaN层组成,在p型层和n型层上分别设有上电极和下电极。电极由热蒸镀或电子束蒸发方法制备,其余各层通过金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法制备。本发明根据所需发光波长确定多量子阱中InGaN阱层的组分后,通过极化强度和禁带宽度的计算调控超晶格势垒层的组分,可以在保证势垒层禁带宽度大于阱层的条件下,减小阱层与势垒层的极化强度差值,从而降低量子阱中的极化电场强度,提高LED的发光性能。

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