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公开(公告)号：CN1251961C
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200310110094.X
申请日：2003-11-24
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用揭起软刻技术对由单分散二氧化硅微球组成的有序胶体晶体进行图案化微加工的方法。包括单分散二氧化硅微球制备及胶体晶体图案化两个步骤，胶体晶体图案化是将表面带有有序图案的硅橡胶模板和已得到的二维或三维有序胶体晶体在1.0×105帕斯卡的压力下形成紧密接触，再将此样品在压力为0.2×105-1.0×105帕斯卡下放进恒温为100-110℃的烘箱里加热3-20小时，将此样品冷却至室温，再把硅橡胶模板小心揭下来，即可在硅橡胶模板表面上得到有序的二维或三维胶体晶体的排列。本发明所述的胶体晶体的微加工图案化技术广泛地应用于基于胶体晶体的光学器件的设计和制备等方面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1301198C
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200410011084.5
申请日：2004-09-08
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用改进的微接触印刷技术对胶体晶体进行图案化和转移的以胶体晶体为墨水进行微接触印刷的方法。包括有序胶体晶体的制备、具有有序微观结构的聚二甲基硅氧烷模板的制备、二维胶体晶体在聚二甲基硅氧烷模板表面的图案化、涂有聚合物膜层的基底的制备、胶体晶体的微接触印刷五个步骤。聚合物膜层材料是聚乙烯醇、聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯。此方法不但实现了对胶体晶体的微观图案化而且实现了胶体晶体向不同材质的基片的转移。该方法具有简单快捷，方便灵活的特点，在同一基底上可进行多次微接触印刷得到异质的胶体晶体膜，这种方法可广泛地用于胶体晶体光学器件的设计和制备并将进一步促进新型材料和光学器件的发展。
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公开(公告)号：CN1654311A
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN200510016616.9
申请日：2005-03-09
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用软刻技术构造非紧密堆积的胶体球有序排列的方法，特别是涉及一种利用软刻技术对胶体球的球间距、晶格结构进行精确控制的方法。包括有序胶体晶体、PDMS模板制备、揭起软光刻技术将二维胶体晶体转移到PDMS模板、涂有聚乙烯醇膜层基底的制备、非紧密堆积胶体球有序排列的形成五个步骤。其中通过将带有胶体球的PDMS模板放于甲苯摩尔含量为100％～0％的甲苯/丙酮混合溶液中溶胀，可以在聚乙烯醇膜层基底上形成表面平的或表面图案化的二维六方非紧密堆积的胶体球排列和非六方结构的二维胶体球排列。利用本发明方法制备的非紧密堆积的胶体球有序排列在光学、光子学、传感器和表面微构造等领域有着诱人的应用前景。
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公开(公告)号：CN1286711C
公开(公告)日：2006-11-29
申请号：CN200510016616.9
申请日：2005-03-09
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用软刻技术构造胶体球间隔有序排列的方法，特别是涉及一种利用软刻技术对胶体球的球间距、晶格结构进行精确控制的方法。包括有序胶体晶体、PDMS模板制备、揭起软光刻技术将二维胶体晶体转移到PDMS模板、涂有聚乙烯醇膜层基底的制备、胶体球间隔有序排列的形成五个步骤。其中通过将带有胶体球的PDMS模板放于甲苯摩尔含量为100%～0%的甲苯/丙酮混合溶液中溶胀，可以在聚乙烯醇膜层基底上形成表面平的或表面图案化的二维六方胶体球间隔有序排列和非六方结构的二维胶体球排列。利用本发明方法制备的间隔有序排列胶体球在光学、光子学、传感器和表面微构造等领域有着诱人的应用前景。
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公开(公告)号：CN1597335A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN200410011084.5
申请日：2004-09-08
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用改进的微接触印刷技术对胶体晶体进行图案化和转移及构造图案化异质胶体晶体的以胶体晶体为墨水进行微接触印刷的方法。包括有序胶体晶体的制备、具有有序微观结构的PDMS模板的制备、二维胶体晶体在PDMS模板表面的图案化、涂有聚合物膜层的基底的制备、胶体晶体的微接触印刷五个步骤。聚合物膜层材料是聚乙烯醇、聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲酯。此方法不但实现了对胶体晶体的微观图案化而且实现了胶体晶体向不同材质的基片的转移。该方法具有简单快捷，方便灵活的特点，在同一基底上可进行多次微接触印刷得到异质的胶体晶体膜，这种方法可广泛地用于胶体晶体光学器件的设计和制备并将进一步促进新型材料和光学器件的发展。
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公开(公告)号：CN1544308A
公开(公告)日：2004-11-10
申请号：CN200310110094.X
申请日：2003-11-24
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明涉及一种利用揭起软刻技术对由单分散二氧化硅微球组成的有序胶体晶体进行图案化微加工的方法。包括单分散二氧化硅微球制备及胶体晶体图案化两个步骤，胶体晶体图案化是将表面带有有序图案的硅橡胶模板和已得到的二维或三维有序胶体晶体在1.0×105帕斯卡的压力下形成紧密接触，再将此样品在压力为0.2×105－1.0×105帕斯卡下放进恒温为100－110℃的烘箱里加热3－20小时，将此样品冷却至室温，再把硅橡胶模板小心揭下来，即可在硅橡胶模板表面上得到有序的二维或三维胶体晶体的排列。本发明所述的胶体晶体的微加工图案化技术广泛地应用于基于胶体晶体的光学器件的设计和制备等方面。
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