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公开(公告)号：CN113759450B
公开(公告)日：2022-07-15
申请号：CN202111058218.9
申请日：2021-09-09
Applicant: 吉林大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种偏振光敏感长波红外亚波长光栅MDM梯形结构吸收器，包括硫化锌基底，所述基底的底部镀制用铝膜，基底上部镀制由下至上依次为铝膜、硒化锌膜、铝膜、锗膜、铝膜的梯形光栅结构层；本发明采用光刻、刻蚀与镀膜相结合的加工工艺，仅通过改变微纳结构的占空比或周期，即可实现吸收峰中心波长的平移调控，并在多方位角下实现超广角窄带高吸收，在全面阵区域内，针对多组条带微纳结构的同一膜层，实现同时加工制备。克服了传统镀膜工艺中，因分时分区域多次镀膜所导致的镀膜次数的数量级增长，以及多条带异化镀膜相对平行度难以保证等难题，提高了加工效率，降低了全面阵区域内偏振光谱分光器件加工制备的难度和复杂性，具有创新意义。
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公开(公告)号：CN111874269B
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202010794295.X
申请日：2020-08-10
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种磁控小卫星的低功耗对日捕获及定向姿态控制方法，涉及卫星姿态控制技术领域，解决现有磁控卫星技术存在受限于磁控力矩量级较小，磁控力矩的方向受到卫星所处位置地球磁场等的限制，导致磁控力矩只能在与地球磁场方向正交的平面内产生等问题，本发明针对六面体构型小卫星，其配置每个面一个0‑1式太阳敏感器，且6个0‑1式太阳敏感器对全天球覆盖；配置数字太阳敏器一个并安装在卫星的最大对日面；配置一个磁强计；配置用于测量卫星三轴姿态角速度信息的MEMS陀螺一套；配置可控制卫星三轴的磁线圈一套。本发明设计了一种寻日控制逻辑，提出基于小卫星角速度控制闭环的控制方法，保证小卫星在阳照区任意初始姿态下均可实现最大帆板面的对日捕获。
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公开(公告)号：CN111708258A
公开(公告)日：2020-09-25
申请号：CN202010640570.2
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测装置及调整方法，涉及全息光栅制作领域。解决现有全息光栅扫描光刻曝光量工艺参数控制性差，光栅制作效率低，且采用静态监测方法，无法满足使用要求等问题，监测光源发出的监测激光用于曝光量监测，电控光闸控制监控激光入射到潜像光栅上，形成监测光斑；监控激光经由潜像光栅产生一级潜像衍射光，一级潜像衍射光经过滤光片，进入光电探测器；位移速度测量系统获取工作台Y向位移及速度，作为对曝光量进行控制的参数；控制器控制电控光闸的打开和关闭，控制同一触发信号同步采集位移速度测量系统和光电探测器的输出数据。本发明可实现全息光栅扫描光刻过程中曝光量的有效监测，保证曝光量工艺参数可控性。
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公开(公告)号：CN119915243A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510090910.1
申请日：2025-01-21
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明适用于测量技术领域，提供了基于CGH的光学制造装调辅助零位标定测量系统及方法，包括干涉测量模块、改进PSF测量模块、半透半反镜和CGH，所述CGH用于对干涉测量模块和改进PSF测量模块进行相位调制，所述CGH包括改进PSF测量相位部分、倾角测量相位部分和定位全息相位部分。本发明利用计算机生成全息图(CGH)的可分区特性，实现了系统光机元件相对位置的精确标定，有效降低了由加工或测量系统装配过程中产生的固有误差。本发明展现出结构模块化、实时响应及高精度测量等优势，特别适用于对光学元件的姿态进行高精度测量，从而显著提升了高端装备加工平台以及光学制造装调过程中的精度与稳定性。
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公开(公告)号：CN118194562A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410336708.8
申请日：2024-03-22
Applicant: 吉林大学
Abstract: 本发明公开了一种对失调误差不敏感的非球面检测系统的设计方法，S1：给定系统参数的初始取值范围，输入到光线追迹计算模型，追迹模型均以CGH衍射面建立基准坐标系并取坐标网格矩阵；S2：加入载频，分离不需要的衍射级次，基于光线追迹方法计算级次分离距离，判断最小分离距离是否大于给定的小孔光阑半径，缩小参数取值范围，若全部不满足则修正参数初始取值范围；S3：基于光线追迹方法计算CGH衍射面相位，计算CGH最小线宽，根据最小加工线宽缩小参数取值范围；本发明系统设计旨在确保CGH在满足可加工条件下，减少非需要的衍射级次光和非球面失调对面型检测产生的误差，降低利用光学设计软件研究的时间成本，辅助面型检测，实现高效且高精度的检测。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114740557A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210041105.6
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 消像差变栅距光栅扫描光刻条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出消像差变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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公开(公告)号：CN114415278A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210041023.1
申请日：2022-01-14
Applicant: 吉林大学
Abstract: 平面变栅距光栅扫描光刻干涉条纹线密度设计方法，涉及全息光栅制作的技术领域，本发明提出平面变栅距光栅扫描光刻的干涉条纹线密度设计方法，利用该方法可根据变栅距光栅刻槽密度目标函数，完成扫描光刻过程中干涉条纹线密度函数的设计，按此干涉条纹线密度设计函数，变化干涉条纹的线密度，最终得到的变周期光栅刻槽密度满足光栅刻槽密度目标函数的要求。按照本方法可设计光刻干涉条纹的线密度变化规律。提高变栅距光栅的刻槽密度的精度，保证曝光对比度工艺参数的可控性，对提升变栅距光栅扫描光刻制作水平，提高光栅制作成功率具有重要意义。
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公开(公告)号：CN113759450A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111058218.9
申请日：2021-09-09
Applicant: 吉林大学
IPC: G02B5/00
Abstract: 本发明公开了一种偏振光敏感长波红外亚波长光栅MDM梯形结构吸收器，包括硫化锌基底，所述基底的底部镀制用铝膜，基底上部镀制由下至上依次为铝膜、硒化锌膜、铝膜、锗膜、铝膜的梯形光栅结构层；本发明采用光刻、刻蚀与镀膜相结合的加工工艺，仅通过改变微纳结构的占空比或周期，即可实现吸收峰中心波长的平移调控，并在多方位角下实现超广角窄带高吸收，在全面阵区域内，针对多组条带微纳结构的同一膜层，实现同时加工制备。克服了传统镀膜工艺中，因分时分区域多次镀膜所导致的镀膜次数的数量级增长，以及多条带异化镀膜相对平行度难以保证等难题，提高了加工效率，降低了全面阵区域内偏振光谱分光器件加工制备的难度和复杂性，具有创新意义。
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公开(公告)号：CN112099227A
公开(公告)日：2020-12-18
申请号：CN202010972914.X
申请日：2020-09-16
Applicant: 吉林大学
Abstract: 一种含有振镜的高保偏正交反射镜组角度公差分配方法，涉及光学仪器领域，解决现有偏振探测系统在装调过程中，存在安装误差或相对位置偏移，当振镜出现摆的情况下，使反射镜组出现不是正交状态，进而导致入射圆偏振光在传输过程中改变为椭圆偏振光，改变入射信号光的偏振特性，影响系统的探测或通信性能等问题，本发明建立了正交反射镜组的偏振光线几何模型，采用三维偏振光线追迹算法来分析圆偏振信号光在传输过程中偏振态的变化，推导了正交反射镜组关于安装误差角和侧摆角的偏振态传输矩阵，完成了出射光偏振态的计算仿真，建立了正交反射镜组安装公差分配与振镜工作振幅确定方法。本发明提高了设计与装调方案的可行性。
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公开(公告)号：CN111708257B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010640565.1
申请日：2020-07-06
Applicant: 吉林大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种全息光栅扫描光刻曝光量监测及控制方法，涉及全息光栅制作技术领域，解决现有全息光栅扫描光刻技术存在曝光时间长，制作效率低，以及采用静态曝光监测方法无法满足使用要求等问题，本发明无需在曝光前进行大量样片的制作和测试。在一次全息光栅正式曝光前，进行用于监测曝光量的预曝光，并对扫描运动速度进行优化选择。在扫描运动速度确定后，直接进入全息光栅的正式曝光。曝光量监测控制及后续光刻过程可实现自动化，使光栅制作效率提高，同时根据不同光栅基底上光刻胶涂层参数变化调整曝光量，有效保证了曝光量工艺参数可控性，对提升全息光栅扫描光刻制造工艺水平，提高光栅制造效率，保证大面积全息光栅制作成功率。
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