一种金刚石集成半导体制冷器结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN116669521A

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202310873049.7

    申请日:2023-07-17

    Abstract: 一种金刚石集成半导体制冷器结构及其制备方法,涉及半导体制冷器结构及其制备方法。解决现有金刚石基半导体制冷器无法实现主‑被动一体式的问题。结构由金刚石衬底、下金属电极、第一型热电偶、第二型热电偶、金刚石生长层一、上金属电极及金刚石生长层二组成;方法:一、通过光刻和物理气相沉积技术,在金刚石衬底表面沉积下金属电极;二、通过光刻和物理气相沉积技术,或者通过焊接技术,制备第一型热电偶和第二型热电偶;三、利用化学气相沉积技术,制备金刚石生长层一;四、通过光刻和物理气相沉积技术,沉积上金属电极;五、利用化学气相沉积技术,制备金刚石生长层二。本发明用于金刚石集成半导体制冷器结构及其制备。

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