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公开(公告)号：CN103311386B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201310206973.6
申请日：2013-05-29
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明提供一种避免图形失真的图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下几个步骤：步骤A:在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射金属铝膜；步骤B:在金属铝膜上施涂光刻胶膜，烘干;步骤C:进行激光干涉曝光、显影，获得光刻胶图形；步骤D:以金属铝膜上图形化光刻胶为掩膜，采用反应离子刻蚀金属铝膜和去胶，在蓝宝石基片上获得金属铝膜凸台的图形化金属铝膜；步骤E:进行低温热处理，使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;步骤F:将得到的图形化多晶Al2O3膜进行高温热处理，使图形化多晶Al2O3膜完全转化为图形化单晶Al2O3膜，即得到图形化蓝宝石衬底。本发明的图形化蓝宝石衬底的制备方法，工艺简单易行，成本低，面积大。
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公开(公告)号：CN103337575A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：CN201310272318.0
申请日：2013-07-01
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
Abstract: 本发明提供一种高效率、低成本、大面积图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下几个步骤：步骤A:在光栅结构图形硬模板上旋涂甲苯稀释的PDMS；步骤B:在甲苯稀释的PDMS上涂覆PDMS预聚物;步骤C:脱模，获得PDMS软压印模板；步骤D:在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射金属铝膜；步骤E:脱模，获得紫外固化胶图形;步骤F:以金属铝膜上图形化紫外固化胶为掩膜；步骤G:进行低温热处理，使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;步骤H:将得到的图形化多晶Al2O3膜进行高温热处理，即得到图形化蓝宝石衬底。本发明获得的用于氮化物外延生长的图形化蓝宝石衬底，工艺简单易行，生产效率高，成本低，面积大。
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公开(公告)号：CN103311386A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310206973.6
申请日：2013-05-29
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明提供一种图形化蓝宝石衬底的制备方法，包括如下几个步骤：步骤A:在蓝宝石基片的一个面上磁控溅射金属铝膜；步骤B:在金属铝膜上施涂光刻胶膜，烘干;步骤C:进行激光干涉曝光、显影，获得光刻胶图形；步骤D:以金属铝膜上图形化光刻胶为掩膜，采用反应离子刻蚀金属铝膜和去胶，在蓝宝石基片上获得金属铝膜凸台的图形化金属铝膜；步骤E:进行低温热处理，使图形化金属铝膜充分氧化成为图形化多晶Al2O3膜;步骤F:将得到的图形化多晶Al2O3膜进行高温热处理，使图形化多晶Al2O3膜完全转化为图形化单晶Al2O3膜，即得到图形化蓝宝石衬底。本发明的图形化蓝宝石衬底的制备方法，工艺简单易行，成本低，面积大。
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公开(公告)号：CN103325888B
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：CN201310249995.0
申请日：2013-06-21
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L31/20
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法，包括以下几个步骤：步骤A、将靶材装入溅射靶中，将基片洗净后放入基片架上，抽真空，使基片能随基片架在溅射靶材上方直线往复动态沉积，获得薄膜；步骤B、将所述基片加热，并于真空室内通入溅射气体，调节真空室压强。本发明可以通过磁控溅射法在硅基薄膜衬底上低温、低功率制备高质量的透明导电膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103325888A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310249995.0
申请日：2013-06-21
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L31/20
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种基于硅基薄膜衬底制备透明导电薄膜的方法，包括以下几个步骤：步骤A、将靶材装入溅射靶中，将基片洗净后放入基片架上，抽真空，使基片能随基片架在溅射靶材上方直线往复动态沉积，获得薄膜；步骤B、将所述基片加热，并于真空室内通入溅射气体，调节真空室压强。本发明可以通过磁控溅射法在硅基薄膜衬底上低温、低功率制备高质量的透明导电膜。
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公开(公告)号：CN102403420A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110356968.4
申请日：2011-11-11
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明涉及一种用于氮化物处延生长的图形化蓝宝石衬底的制备方法，本发明方法先在蓝宝石基片上磁控溅射一层铝膜，然后施涂两层光刻胶膜且下层光刻胶具有更好的光敏感性，经曝光、显影形成光刻胶图形，再磁控溅射第二层铝膜，经溶剂浸泡剥离外层铝膜，最后经低温、高温两步热处理形成具有单晶氧化铝膜的图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法工艺简单易行，即克服了干法刻蚀方法易污染、损伤衬底的问题，也克服了湿法刻蚀方法易造成图形失真的问题。
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公开(公告)号：CN102403420B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201110356968.4
申请日：2011-11-11
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明涉及一种用于氮化物处延生长的图形化蓝宝石衬底的制备方法，本发明方法先在蓝宝石基片上磁控溅射一层铝膜，然后施涂两层光刻胶膜且下层光刻胶具有更好的光敏感性，经曝光、显影形成光刻胶图形，再磁控溅射第二层铝膜，经溶剂浸泡剥离外层铝膜，最后经低温、高温两步热处理形成具有单晶氧化铝膜的图形化蓝宝石衬底。本发明的制备方法工艺简单易行，即克服了干法刻蚀方法易污染、损伤衬底的问题，也克服了湿法刻蚀方法易造成图形失真的问题。
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公开(公告)号：CN103287010B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310031456.X
申请日：2013-01-28
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
Abstract: 本发明提供一种蓝宝石红外窗口用氧化钇/二氧化硅增透保护膜，包括依次沉积的氧化钇层和二氧化硅层，所述氧化钇层的厚度为200~750nm，所述二氧化硅层的厚度为600~900nm。本发明提供的蓝宝石红外窗口用氧化钇/二氧化硅增透保护膜，在提高蓝宝石高温强度和红外透波率的同时，尤其可以改善增透保护膜的附着性能，从而解决了蓝宝石红外窗口在高温、高压等恶劣工作环境常出现的热开裂、热畸变和保护膜脱落等问题。
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公开(公告)号：CN103287010A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201310031456.X
申请日：2013-01-28
Applicant: 哈尔滨工业大学深圳研究生院
Abstract: 本发明提供一种蓝宝石红外窗口用氧化钇/二氧化硅增透保护膜，包括依次沉积的氧化钇层和二氧化硅层，所述氧化钇层的厚度为200~750nm，所述二氧化硅层的厚度为600~900nm。本发明提供的蓝宝石红外窗口用氧化钇/二氧化硅增透保护膜，在提高蓝宝石高温强度和红外透波率的同时，尤其可以改善增透保护膜的附着性能，从而解决了蓝宝石红外窗口在高温、高压等恶劣工作环境常出现的热开裂、热畸变和保护膜脱落等问题。
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