基材处理方法
    6.
    发明公开
    基材处理方法 审中-公开

    公开(公告)号:CN119191726A

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202310708700.5

    申请日:2023-06-14

    Abstract: 本发明的目的在于提高一种具有防反射膜的基材的新型表面处理方法。本发明的具有防反射膜的基材的处理方法包括:实施使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理的工序;在上述使防反射膜的表面的至少一部分的区域平滑的处理后的防反射膜的表面形成含有SiO2的层的工序;和在上述含有SiO2的层的表面的至少一部分的区域适用表面处理剂,形成表面处理层的工序。

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