形成熔丝结构的方法
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100530633C

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200710153741.3

    申请日:2007-09-14

    CPC classification number: H01L23/5256 H01L2924/0002 H01L2924/00

    Abstract: 本发明公开了一种熔丝结构,该熔丝结构包括插入在基板和熔丝材料层之间的空腔。所述空腔不形成于所述熔丝材料层的侧壁,或与所述基板相对的熔丝材料的表面。当所述熔丝材料层包括突出的端部和较窄的中间区时,在使用自对准蚀刻法时,空腔可以形成插入所述基板和熔丝材料层之间。所述空腔通过支撑所述熔丝材料层的一对牺牲层基座而被隔离。包封所述空腔从而通过使用包封介电层而形成空腔。作为替代,当形成插入所述基板和熔丝材料层之间的空腔时,可以使用阻挡掩模。

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